Daar is tans twee soorte algemene gereedskapbedekkingsmetodes: chemiese dampneerslag (cvd) en fisiese dampneerlegging (pvd). In onlangse jare het 'n paar nuwe deklaagprosesse verskyn, wat 'n goeie toepassingsvooruitsig het.
CVD

CVD-metode, wat tot atoomafsetting behoort, is 'n metode om soliede afsettingslaag op die oppervlak van verhittingsmatriks te vorm deur damp, waterstof en ander chemiese komponente van metaalhalied by 'n hoë temperatuur van 950 ~ 1050 ℃ te gebruik. Die proses sluit drie fases in: verdamping van materiaal, vervoer na die omgewing van matriks en vorming van oorleg op matriks.
Onder alle soorte cvd-metodes word vakuumioonbombardement en magnetronioonreaksiebespuiting die meeste gebruik. cvd-tegnologie word hoofsaaklik gebruik vir die oppervlakbedekking van gesementeerde karbiedsnygereedskap, wat geskik is vir hoëspoed-rofbewerking en semi-afwerking van medium en swaar snywerk.
In vergelyking met ander bedekkingsmetodes, het cvd-metode nie net die voordele van eenvoudige toerusting, volwasse proses nie, maar het ook die volgende voordele:
Daar is baie soorte sedimente wat bedek kan word met metale, legerings, karbiede, nitriede, boriede, oksiede, koolstofnitriede, suurstofnitriede, koolwaterstofnitriede, ens. Met hoë deurlaatbaarheid en eenvormigheid kan meerlaagbedekkings met verskillende weefsels verkry word, en die laagdikte is eenvormig. Die neerslagtempo is hoog en maklik om te beheer. Die deklaag het hoë suiwerheid en fyn en digte korrels. Sterk adhesie kan dikker laag verkry. Lae proseskoste, geskik vir massaproduksie.
PVD

PVD-metode is om materiaal van teikenbronne te verwyder deur fisiese vorms soos verdamping of sputtering, en dan hierdie energieke dampione op die substraat of gedeeltelike oppervlak neer te sit om 'n filmlaag deur vakuum of semi-vakuumruimte te vorm. Die dampreaksie van verdampte of gesputterde metaalatome lei tot die afsetting van die vereiste verbindings op die werktuigoppervlak. pvd-bedekking kan bedek word met titaniumnitried, titaniumkoolstofnitried, aluminiumtitaniumstikstofverbindings, sowel as verskeie vuurvaste metale van karbiede en nitriede.
PVD-tegnologie word hoofsaaklik gebruik in die oppervlakbehandeling van integrale gesementeerde karbiedgereedskap en hoëspoedgereedskapstaalgereedskap. Dit is wyd gebruik in dekbehandeling van gesementeerde karbiedboorpunte, freessnyer, ruimer, kraan, spesiale vormgereedskap, sweiswerktuig en so aan.
MT-CVD

Die tcn-bedekking met digte veselagtige kristallyne morfologie kan verkry word deur middel van medium temperatuur chemiese dampneerslag (MT-CVD) by 700 ~ 900 ℃. Die laagdikte kan 8 ~ 10μm bereik, en kan a2o3、tin op die oppervlaklaag wees deur cvd-tegnologie.
MT-CVD coating lem is geskik vir hoë spoed, hoë temperatuur, groot vrag, droë sny toestande, sy lewe is ongeveer twee keer so hoog as dié van gewone coating lem. cvd se grootste nadeel van die metode is dat die afsettingstemperatuur hoog is, en die gereedskapgloeiing en vervorming sal plaasvind wanneer die hoëspoed-gereedskapstaalgereedskap bedek is. Die gedeponeerde gereedskap moet dus geblus word.
Kopiereg © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Alle regte voorbehou