Ruitai-ს სამზარეულოს დანები: თქვენი მთავარი წყარო ჩინეთიდან სამზარეულოს დანების ნაკრების შეკვეთით შესაძენად
Ენა
Ruitai-ს სამზარეულოს დანები: თქვენი მთავარი წყარო ჩინეთიდან სამზარეულოს დანების ნაკრების შეკვეთით შესაძენად
იარაღების დაფარვის ორი ტიპი არსებობს: ქიმიური ორთქლის დეპონირება (cvd) და ფიზიკური ორთქლის დეპონირება (pvd). ბოლო წლებში გამოჩნდა რამდენიმე ახალი საფარის პროცესი, რომელსაც აქვს კარგი გამოყენების პერსპექტივა.
CVD
CVD მეთოდი, რომელიც მიეკუთვნება ატომურ დეპონირებას, არის გათბობის მატრიცის ზედაპირზე მყარი დეპონირების ფენის ფორმირების მეთოდი ორთქლის, წყალბადის და მეტალის ჰალოიდის სხვა ქიმიური კომპონენტების გამოყენებით მაღალ ტემპერატურაზე 950~1050℃. პროცესი მოიცავს სამ ეტაპს: მასალის აორთქლება, ტრანსპორტირება მატრიცის სიახლოვეს და მატრიცაზე გადაფარვის ფორმირება.
ყველა სახის cvd მეთოდს შორის ყველაზე მეტად გამოიყენება ვაკუუმური იონების დაბომბვა და მაგნეტრონის იონური რეაქციის შესხურება. cvd ტექნოლოგია ძირითადად გამოიყენება ცემენტირებული კარბიდის საჭრელი ხელსაწყოების ზედაპირის საფარისთვის, რომელიც შესაფერისია მაღალი სიჩქარით უხეშად და საშუალო და მძიმე ჭრის ნახევრად დამუშავებისთვის.
დაფარვის სხვა მეთოდებთან შედარებით, cvd მეთოდს არა მხოლოდ აქვს მარტივი აღჭურვილობის, სექსუალური პროცესის უპირატესობები, არამედ აქვს შემდეგი უპირატესობები:
არსებობს მრავალი სახის ნალექი, რომელიც შეიძლება დაფარული იყოს ლითონებით, შენადნობებით, კარბიდებით, ნიტრიდებით, ბორიდებით, ოქსიდებით, ნახშირბადის ნიტრიდებით, ჟანგბადის ნიტრიდებით, ნახშირწყალბადის ნიტრიდებით და ა.შ. მაღალი გამტარიანობითა და ერთგვაროვნებით შეიძლება მიღებულ იქნას მრავალშრიანი საფარები სხვადასხვა ქსოვილით, ხოლო საფარის სისქე ერთგვაროვანია. დეპონირების მაჩვენებელი მაღალია და ადვილად კონტროლდება. საფარს აქვს მაღალი სისუფთავე და წვრილი და მკვრივი მარცვლები. ძლიერ ადჰეზიას შეუძლია მიიღოს სქელი საფარი. პროცესის დაბალი ღირებულება, შესაფერისი მასობრივი წარმოებისთვის.
PVD
PVD მეთოდი არის მასალების ამოღება სამიზნე წყაროებიდან ფიზიკური ფორმებით, როგორიცაა აორთქლება ან დაღვრა, და შემდეგ ამ ენერგიული ორთქლის იონების დეპონირება სუბსტრატზე ან ნაწილის ზედაპირზე, რათა შეიქმნას ფირის ფენა ვაკუუმში ან ნახევრად ვაკუუმ სივრცეში. აორთქლებული ან გაფუჭებული ლითონის ატომების ორთქლის რეაქცია იწვევს ხელსაწყოს ზედაპირზე საჭირო ნაერთების დეპონირებას. pvd საფარი შეიძლება დაფარული იყოს ტიტანის ნიტრიდით, ტიტანის ნახშირბადის ნიტრიდით, ალუმინის ტიტანის აზოტის ნაერთებით, ასევე კარბიდების და ნიტრიდების სხვადასხვა ცეცხლგამძლე ლითონებით.
PVD ტექნოლოგია ძირითადად გამოიყენება ინტეგრალური ცემენტირებული კარბიდის ხელსაწყოებისა და მაღალსიჩქარიანი ხელსაწყოების ფოლადის ხელსაწყოების ზედაპირის დასამუშავებლად. იგი ფართოდ გამოიყენებოდა ცემენტირებული კარბიდის ნაჭრის, საღეჭი საჭრელის, ონკანის, სპეციალური ფორმის ხელსაწყოს, შედუღების ხელსაწყოს და ა.შ.
MT-CVD
tcn საფარი მკვრივი ბოჭკოვანი კრისტალური მორფოლოგიით შეიძლება მიღებულ იქნას საშუალო ტემპერატურის ქიმიური ორთქლის დეპონირებით (MT-CVD) 700-900℃. საფარის სისქემ შეიძლება მიაღწიოს 8~10μm-ს და შეიძლება იყოს a2o3、tin ზედაპირულ ფენაზე cvd ტექნოლოგიით.
MT-CVD საფარის დანა განკუთვნილია მაღალი სიჩქარით, მაღალი ტემპერატურის, დიდი დატვირთვის, მშრალი ჭრის პირობებისთვის, მისი სიცოცხლე დაახლოებით ორჯერ მაღალია, ვიდრე ჩვეულებრივი საფარის დანა. cvd მეთოდის მთავარი მინუსი არის ის, რომ დეპონირების ტემპერატურა მაღალია და ხელსაწყოს ანეილირება და დეფორმაცია მოხდება მაღალსიჩქარიანი ხელსაწყოს ფოლადის ხელსაწყოს დაფარვისას. ასე რომ, დეპონირებული ინსტრუმენტი უნდა ჩაქრეს.
საავტორო უფლება © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | ყველა უფლება დაცულია
