ມີສອງປະເພດຂອງວິທີການເຄືອບເຄື່ອງມືທົ່ວໄປ: ການຝາກ vapor ສານເຄມີ (cvd) ແລະ vapor deposition ທາງດ້ານຮ່າງກາຍ (pvd) ໃນປັດຈຸບັນ. ໃນຊຸມປີມໍ່ໆມານີ້, ຂະບວນການເຄືອບໃຫມ່ຈໍານວນຫນຶ່ງໄດ້ປາກົດ, ເຊິ່ງມີຄວາມສົດໃສດ້ານຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ດີ.
CVD

ວິທີການ CVD, ເຊິ່ງຂຶ້ນກັບການລະລາຍປະລໍາມະນູ, ແມ່ນວິທີການສ້າງຊັ້ນເງິນຝາກແຂງຢູ່ເທິງພື້ນຜິວຂອງມາຕຣິກເບື້ອງຄວາມຮ້ອນໂດຍໃຊ້ vapor, hydrogen ແລະອົງປະກອບທາງເຄມີອື່ນໆຂອງ halide ໂລຫະທີ່ອຸນຫະພູມສູງຂອງ 950 ~ 1050 ℃. ຂະບວນການປະກອບມີສາມຂັ້ນຕອນ: ການເຮັດໃຫ້ເປັນໄອຂອງວັດສະດຸ, ການຂົນສົ່ງໄປສູ່ເຂດໃກ້ຄຽງຂອງມາຕຣິກເບື້ອງແລະການສ້າງຕັ້ງຂອງ overlay ໃນ matrix.
ໃນບັນດາວິທີການ cvd ທັງຫມົດ, ການຖິ້ມລະເບີດ ion ສູນຍາກາດແລະການສີດພົ່ນຕິກິຣິຍາ ion magnetron ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຫຼາຍທີ່ສຸດ. ເທກໂນໂລຍີ cvd ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ສໍາລັບການເຄືອບດ້ານຂອງເຄື່ອງມືຕັດຊີມັງ carbide, ເຊິ່ງເຫມາະສົມສໍາລັບການຕັດ roughing ຄວາມໄວສູງແລະການສໍາເລັດຮູບຂອງການຕັດຂະຫນາດກາງແລະຫນັກ.
ເມື່ອປຽບທຽບກັບວິທີການເຄືອບອື່ນໆ, ວິທີການ cvd ບໍ່ພຽງແຕ່ມີຂໍ້ດີຂອງອຸປະກອນທີ່ງ່າຍດາຍ, ຂະບວນການແກ່, ແຕ່ຍັງມີຂໍ້ດີດັ່ງຕໍ່ໄປນີ້:
ມີຫຼາຍຊະນິດຂອງຕະກອນ, ເຊິ່ງສາມາດເຄືອບດ້ວຍໂລຫະ, ໂລຫະປະສົມ, carbides, nitrides, borides, oxides, carbon nitrides, nitrides ອົກຊີ, hydro-carbon nitrides, ແລະອື່ນໆ: ມີ permeability ສູງແລະຄວາມເປັນເອກະພາບ, ການເຄືອບ multilayer ກັບແພຈຸລັງທີ່ແຕກຕ່າງກັນສາມາດໄດ້ຮັບການ, ແລະຄວາມຫນາຂອງເຄືອບແມ່ນເປັນເອກະພາບ. ອັດຕາເງິນຝາກແມ່ນສູງແລະງ່າຍຕໍ່ການຄວບຄຸມ. ການເຄືອບມີຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະເມັດພືດທີ່ດີແລະຫນາແຫນ້ນ. ການຍຶດເກາະທີ່ເຂັ້ມແຂງສາມາດໄດ້ຮັບສານເຄືອບທີ່ຫນາກວ່າ. ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນຂະບວນການຕ່ໍາ, ເຫມາະສົມສໍາລັບການຜະລິດຈໍານວນຫລາຍ.
PVD

ວິທີການ PVD ແມ່ນການເອົາວັດສະດຸອອກຈາກແຫຼ່ງເປົ້າຫມາຍໂດຍຮູບແບບທາງດ້ານຮ່າງກາຍເຊັ່ນ: ການລະເຫີຍຫຼື sputtering, ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນຝາກ ions vapor ທີ່ມີພະລັງເຫຼົ່ານີ້ໃສ່ຊັ້ນຍ່ອຍຫຼືຫນ້າດິນບາງສ່ວນເພື່ອສ້າງຊັ້ນຮູບເງົາໂດຍຜ່ານຊ່ອງຫວ່າງຫຼືເຄິ່ງສູນຍາກາດ. ປະຕິກິລິຍາໄອຂອງອະຕອມໂລຫະທີ່ evaporated ຫຼື sputtered ນໍາໄປສູ່ການ deposition ຂອງທາດປະສົມທີ່ຕ້ອງການຢູ່ດ້ານເຄື່ອງມື. ການເຄືອບ pvd ສາມາດເຄືອບດ້ວຍ titanium nitride, titanium carbon nitride, ອະລູມິນຽມ titanium ທາດປະສົມໄນໂຕຣເຈນ, ເຊັ່ນດຽວກັນກັບໂລຫະ refractory ຕ່າງໆຂອງ carbides ແລະ nitrides.
ເທກໂນໂລຍີ PVD ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ໃນການປິ່ນປົວດ້ານຂອງເຄື່ອງມື carbide ຊີມັງທີ່ປະສົມປະສານແລະເຄື່ອງມືເຫຼັກທີ່ມີຄວາມໄວສູງ. ມັນໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການປິ່ນປົວການເຄືອບຂອງຊີມັງ carbide bit, ເຄື່ອງຕັດ milling, reamer, ປາດ, ເຄື່ອງມືທີ່ມີຮູບຮ່າງພິເສດ, ເຄື່ອງມືການເຊື່ອມໂລຫະແລະອື່ນໆ.
MT-CVD

ການເຄືອບ tcn ກັບ morphology crystalline fibrous ຫນາແຫນ້ນສາມາດໄດ້ຮັບໂດຍການລະບາຍອາຍພິດເຄມີອຸນຫະພູມປານກາງ (MT-CVD) ທີ່ 700 ~ 900 ℃. ຄວາມຫນາຂອງການເຄືອບສາມາດບັນລຸ 8 ~ 10μm, ແລະສາມາດເປັນ a2o3, tin ໃນຊັ້ນຫນ້າດິນໂດຍເຕັກໂນໂລຊີ cvd.
ໃບມີດເຄືອບ MT-CVD ເຫມາະສໍາລັບຄວາມໄວສູງ, ອຸນຫະພູມສູງ, ການໂຫຼດຂະຫນາດໃຫຍ່, ສະພາບການຕັດແຫ້ງ, ຊີວິດຂອງມັນແມ່ນປະມານສອງເທົ່າຂອງແຜ່ນເຄືອບທໍາມະດາ. cvd ຈຸດອ່ອນຕົ້ນຕໍຂອງວິທີການແມ່ນວ່າອຸນຫະພູມ deposition ສູງ, ແລະການ annealing ແລະ deformation ເຄື່ອງມືຈະເກີດຂຶ້ນໃນເວລາທີ່ເຄື່ອງມືເຫຼັກຄວາມໄວສູງແມ່ນເຄືອບ. ດັ່ງນັ້ນເຄື່ອງມືທີ່ຝາກໄວ້ຕ້ອງຖືກດັບ.
ສະຫງວນລິຂະສິດ © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | ສະຫງວນລິຂະສິດທັງໝົດ