Blog
Pisau Pawon Ruitai: Sumber Utama kanggo Pisau Pawon Kustom saka China
Basa
Pisau Pawon Ruitai: Sumber Utama kanggo Pisau Pawon Kustom saka China
Ana rong jinis metode lapisan alat umum: deposisi uap kimia (cvd) lan deposisi uap fisik (pvd) saiki. Ing taun-taun pungkasan, sawetara pangolahan lapisan anyar wis muncul, sing nduweni prospek aplikasi sing apik.
CVD
Cara CVD, sing kalebu ing deposisi atom, yaiku cara mbentuk lapisan deposisi padhet ing permukaan matriks pemanasan kanthi nggunakake uap, hidrogen lan komponen kimia liyane saka logam halida ing suhu dhuwur 950 ~ 1050 ℃. Proses kasebut kalebu telung tahap: penguapan materi, transportasi menyang sekitar matriks lan pembentukan overlay ing matriks.
Ing antarane kabeh jinis metode cvd, bombardment ion vakum lan uyuh reaksi ion magnetron sing paling akeh digunakake. teknologi cvd utamané dipigunakaké kanggo nutupi lumahing alat nglereni karbida cemented, kang cocok kanggo roughing kacepetan dhuwur lan semi-finishing saka medium lan abot nglereni.
Dibandhingake karo cara lapisan liyane, metode cvd ora mung nduweni kaluwihan saka peralatan prasaja, proses diwasa, nanging uga nduweni kaluwihan ing ngisor iki:
Ana macem-macem jinis endapan, sing bisa dilapisi karo logam, wesi, karbida, nitrida, borida, oksida, karbon nitrida, oksigen nitrida, hidro-karbon nitrida, lsp: Kanthi permeabilitas lan keseragaman sing dhuwur, lapisan multilayer kanthi jaringan sing beda-beda bisa diduweni, lan ketebalan lapisan seragam. Tingkat deposisi dhuwur lan gampang dikontrol. Lapisan kasebut nduweni kemurnian sing dhuwur lan biji-bijian sing apik lan padhet. Adhesi sing kuat bisa entuk lapisan sing luwih kandel. Biaya proses sing murah, cocok kanggo produksi massal.
PVD
Cara PVD yaiku mbusak bahan saka sumber target kanthi bentuk fisik kayata penguapan utawa sputtering, banjur setor ion uap energik kasebut ing permukaan substrat utawa bagean kanggo mbentuk lapisan film liwat ruang vakum utawa semi-vakum. Reaksi uap saka atom logam sing nguap utawa sputtered nyebabake deposisi senyawa sing dibutuhake ing permukaan alat. lapisan pvd bisa dilapisi karo titanium nitride, titanium karbon nitride, aluminium titanium senyawa nitrogen, uga macem-macem logam refraktori karbida lan nitrida.
teknologi PVD utamané dipigunakaké ing perawatan lumahing pribadi cemented carbide integral lan alat baja alat kacepetan dhuwur. Iku wis digunakake digunakake ing perawatan nutupi cemented carbide bit, panggilingan cutter, reamer, tunyuk, alat khusus-shaped, alat welding lan ing.
MT-CVD
Lapisan tcn kanthi morfologi kristal fibrous sing padhet bisa dipikolehi kanthi deposisi uap kimia suhu medium (MT-CVD) ing 700 ~ 900 ℃. Kekandelan lapisan bisa nganti 8 ~ 10μm, lan bisa dadi a2o3, timah ing lapisan permukaan kanthi teknologi cvd.
Blade lapisan MT-CVD cocok kanggo kacepetan dhuwur, suhu dhuwur, beban gedhe, kahanan nglereni garing, umure kira-kira kaping pindho luwih dhuwur tinimbang bilah lapisan biasa. cvd drawback utama saka cara punika suhu deposisi dhuwur, lan alat annealing lan ewah-ewahan bentuk bakal kelakon nalika alat baja alat kacepetan dhuwur ditutupi. Dadi alat sing disimpen kudu dipateni.
Hak Cipta © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Kabeh hak dilindhungi undhang-undhang
