இரண்டு வகையான பொதுவான கருவி பூச்சு முறைகள் உள்ளன: தற்போது இரசாயன நீராவி படிவு (சிவிடி) மற்றும் உடல் நீராவி படிவு (பிவிடி). சமீபத்திய ஆண்டுகளில், சில புதிய பூச்சு செயல்முறைகள் தோன்றியுள்ளன, இது ஒரு நல்ல பயன்பாட்டு வாய்ப்பைக் கொண்டுள்ளது.
CVD

CVD முறை, அணு படிவுக்கு சொந்தமானது, இது 950~1050℃ உயர் வெப்பநிலையில் உலோக ஹாலைடின் நீராவி, ஹைட்ரஜன் மற்றும் பிற இரசாயன கூறுகளைப் பயன்படுத்தி வெப்ப மேட்ரிக்ஸின் மேற்பரப்பில் திட படிவு அடுக்கை உருவாக்கும் முறையாகும். செயல்முறை மூன்று நிலைகளை உள்ளடக்கியது: பொருளின் ஆவியாதல், அணிக்கு அருகில் போக்குவரத்து மற்றும் மேட்ரிக்ஸில் மேலடுக்கு உருவாக்கம்.
அனைத்து வகையான சிவிடி முறைகளிலும், வெற்றிட அயன் குண்டுவீச்சு மற்றும் மேக்னட்ரான் அயன் எதிர்வினை தெளித்தல் ஆகியவை அதிகம் பயன்படுத்தப்படுகின்றன. cvd தொழில்நுட்பம் முக்கியமாக சிமென்ட் செய்யப்பட்ட கார்பைடு வெட்டும் கருவிகளின் மேற்பரப்பு பூச்சுக்கு பயன்படுத்தப்படுகிறது, இது நடுத்தர மற்றும் கனமான வெட்டுக்களை அதிவேக ரஃப் மற்றும் அரை முடிக்க ஏற்றது.
மற்ற பூச்சு முறைகளுடன் ஒப்பிடும்போது, cvd முறையானது எளிய உபகரணங்களின் நன்மைகள், முதிர்ந்த செயல்முறைகள் மட்டுமல்ல, பின்வரும் நன்மைகளையும் கொண்டுள்ளது:
உலோகங்கள், உலோகக்கலவைகள், கார்பைடுகள், நைட்ரைடுகள், போரைடுகள், ஆக்சைடுகள், கார்பன் நைட்ரைடுகள், ஆக்ஸிஜன் நைட்ரைடுகள், ஹைட்ரோ கார்பன் நைட்ரைடுகள் போன்றவற்றால் பூசப்படும் பல வகையான வண்டல்கள் உள்ளன: அதிக ஊடுருவல் மற்றும் சீரான தன்மையுடன், பல்வேறு திசுக்களுடன் பல அடுக்கு பூச்சுகளைப் பெறலாம், பூச்சு தடிமன் சீரானது. படிவு விகிதம் அதிகமாக உள்ளது மற்றும் கட்டுப்படுத்த எளிதானது. பூச்சு அதிக தூய்மை மற்றும் மெல்லிய மற்றும் அடர்த்தியான தானியங்களைக் கொண்டுள்ளது. வலுவான ஒட்டுதல் தடிமனான பூச்சு பெற முடியும். குறைந்த செயல்முறை செலவு, வெகுஜன உற்பத்திக்கு ஏற்றது.
PVD

PVD முறையானது, ஆவியாதல் அல்லது ஸ்பட்டரிங் போன்ற இயற்பியல் வடிவங்கள் மூலம் இலக்கு மூலங்களிலிருந்து பொருட்களை அகற்றி, பின்னர் இந்த ஆற்றல்மிக்க நீராவி அயனிகளை அடி மூலக்கூறு அல்லது பகுதி மேற்பரப்பில் வைத்து வெற்றிடம் அல்லது அரை-வெற்றிட இடைவெளி மூலம் ஒரு பட அடுக்கை உருவாக்குவதாகும். ஆவியாக்கப்பட்ட அல்லது தெளிக்கப்பட்ட உலோக அணுக்களின் நீராவி எதிர்வினை கருவி மேற்பரப்பில் தேவையான சேர்மங்களின் படிவுக்கு வழிவகுக்கிறது. pvd பூச்சு டைட்டானியம் நைட்ரைடு, டைட்டானியம் கார்பன் நைட்ரைடு, அலுமினியம் டைட்டானியம் நைட்ரஜன் கலவைகள், அத்துடன் கார்பைடுகள் மற்றும் நைட்ரைடுகளின் பல்வேறு பயனற்ற உலோகங்கள் ஆகியவற்றால் பூசப்படலாம்.
PVD தொழில்நுட்பம் முக்கியமாக ஒருங்கிணைந்த சிமென்ட் கார்பைடு கருவிகள் மற்றும் அதிவேக கருவி எஃகு கருவிகளின் மேற்பரப்பு சிகிச்சையில் பயன்படுத்தப்படுகிறது. சிமென்ட் செய்யப்பட்ட கார்பைடு பிட், அரைக்கும் கட்டர், ரீமர், குழாய், சிறப்பு வடிவ கருவி, வெல்டிங் கருவி மற்றும் பலவற்றின் பூச்சு சிகிச்சையில் இது பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.
எம்டி-சிவிடி

700~900℃ இல் நடுத்தர வெப்பநிலை இரசாயன நீராவி படிவு (MT-CVD) மூலம் அடர்த்தியான நார்ச்சத்து படிக உருவ அமைப்பைக் கொண்ட tcn பூச்சு பெறலாம். பூச்சு தடிமன் 8~10μm அடையலாம், மேலும் cvd தொழில்நுட்பத்தின் மூலம் மேற்பரப்பு அடுக்கில் a2o3、tin ஆக இருக்கலாம்.
MT-CVD பூச்சு கத்தி அதிக வேகம், அதிக வெப்பநிலை, பெரிய சுமை, உலர் வெட்டு நிலைமைகளுக்கு ஏற்றது, அதன் ஆயுள் சாதாரண பூச்சு கத்தியை விட இரண்டு மடங்கு அதிகமாகும். cvd முறையின் முக்கிய குறைபாடு என்னவென்றால், படிவு வெப்பநிலை அதிகமாக உள்ளது, மேலும் அதிவேக கருவி எஃகு கருவி பூசப்படும் போது கருவியின் அனீலிங் மற்றும் சிதைவு ஏற்படும். எனவே டெபாசிட் செய்யப்பட்ட கருவியை அணைக்க வேண்டும்.
பதிப்புரிமை © 2026 யாங்ஜியாங் யாங்டாங் ருயிட்டாய் ஹார்டுவேர் தயாரிப்புகள் நிறுவனம், லிமிடெட் | அனைத்து உரிமைகளும் பாதுகாக்கப்பட்டவை