Ruitai ашкана бычактары: Кытайдан келген ашкана бычактары үчүн негизги булагы
Тил
Ruitai ашкана бычактары: Кытайдан келген ашкана бычактары үчүн негизги булагы
Жалпы куралды каптоо ыкмаларынын эки түрү бар: азыркы учурда химиялык буу менен каптоо (cvd) жана физикалык буу коюу (pvd). Акыркы жылдары, жакшы колдонуу келечеги бар, кээ бир жаңы каптоо жараяндар пайда болду.
CVD
Атомдук чөктүрүүгө таандык CVD ыкмасы - 950 ~ 1050 ℃ жогорку температурада металл галогенидинин буусу, суутек жана башка химиялык компоненттерин колдонуу менен ысытуу матрицанын бетинде катуу катмарлануу катмарын түзүү ыкмасы. Процесс үч этапты камтыйт: материалды буулантуу, матрицага жакын жерге ташуу жана матрицада катмардын пайда болушу.
CVD ыкмаларынын бардык түрлөрүнүн ичинен вакуумдук иондук бомбалоо жана магнетрондук ион реакциясын чачуу эң көп колдонулат. cvd технологиясы негизинен цементтелген карбид кесүүчү шаймандардын үстүн жабуу үчүн колдонулат, ал жогорку ылдамдыктагы орой жана орто жана оор кесүүнү жарым-жартылай иштетүү үчүн ылайыктуу.
Башка каптоо ыкмалары менен салыштырганда, cvd ыкмасы жөнөкөй жабдуулардын, жетилген процесстин артыкчылыктарына ээ эмес, ошондой эле төмөнкү артыкчылыктарга ээ:
Металлдар, эритмелер, карбиддер, нитриддер, бориддер, оксиддер, көмүртек нитриддери, кычкылтек нитриддери, углеводород нитриддери жана башкалар менен капталган чөкмөлөрдүн көптөгөн түрлөрү бар: Жогорку өткөрүмдүүлүк жана бирдейлик менен ар кандай ткандар менен көп катмарлуу каптамаларды алууга болот, ал эми каптоо калыңдыгы бирдей. Депозиттин ылдамдыгы жогору жана көзөмөлдөө оңой. Каптама жогорку тазалыкка жана майда жана тыгыз бүртүкчөлөргө ээ. Күчтүү адгезия коюу жабууну ала алат. Төмөн процесс баасы, массалык өндүрүш үчүн ылайыктуу.
PVD
PVD ыкмасы буулануу же чачыратуу сыяктуу физикалык формалар аркылуу максаттуу булактардан материалдарды алып салуу, андан кийин вакуум же жарым-вакуум мейкиндиги аркылуу пленка катмарын түзүү үчүн бул энергетикалык буу иондорун субстраттын же бөлүгүнүн бетине салуу. бууланган же чачыраган металл атомдорунун буу реакциясы аспаптын бетине керектүү кошулмалардын чөктүрүлүшүнө алып келет. pvd каптоо титан нитриди, титан көмүртек нитриди, алюминий титан азот бирикмелери, ошондой эле карбиддердин жана нитриддердин ар кандай отко чыдамдуу металлдар менен капталган болот.
PVD технологиясы негизинен интегралдык цементтелген карбид куралдарын жана жогорку ылдамдыктагы аспап болот куралдарын беттик тазалоодо колдонулат. Ал цементтелген карбидди, фрезерди, рейкерди, кранды, атайын формадагы аспапты, ширетүүчү шайманды жана башкаларды жабууда кеңири колдонулат.
MT-CVD
тыгыз жипчелүү кристаллдык морфологиясы менен tcn каптоо 700 ~ 900 ℃ орто температурадагы химиялык буу чөктүрүүдө (MT-CVD) менен алынышы мүмкүн. Каптоо калыңдыгы 8 ~ 10μm жетиши мүмкүн, жана cvd технологиясы боюнча беттик катмарында a2o3, калай болушу мүмкүн.
MT-CVD каптоочу бычак жогорку ылдамдыкта, жогорку температурада, чоң жүктөмдө, кургак кесүү шарттарында ылайыктуу, анын иштөө мөөнөтү кадимки каптоочу бычактан эки эсе жогору. Методдун cvd негизги жетишпеген жагы - бул жайгаштыруу температурасы жогору, ал эми жогорку ылдамдыктагы аспап болоттон жасалган аспап капталганда шайманды күйгүзүү жана деформация болот. Ошентип, депонирленген куралды өчүрүү керек.
Copyright © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Бардык укуктар корголгон
