În prezent, există două tipuri de metode comune de acoperire a sculelor: depunerea chimică în vapori (cvd) și depunerea fizică în vapori (pvd). În ultimii ani, au apărut câteva procedee noi de acoperire, care au o bună perspectivă de aplicare.
CVD

Metoda CVD, care aparține depunerii atomice, este o metodă de formare a stratului de depunere solid pe suprafața matricei de încălzire prin utilizarea vaporilor, hidrogenului și a altor componente chimice ale halogenurilor metalice la temperatură înaltă de 950 ~ 1050 ℃. Procesul include trei etape: vaporizarea materialului, transportul în vecinătatea matricei și formarea suprapunerii pe matrice.
Dintre toate tipurile de metode cvd, cele mai utilizate sunt bombardarea cu ioni în vid și pulverizarea cu reacție cu ioni magnetron. Tehnologia cvd este utilizată în principal pentru acoperirea suprafeței sculelor de tăiere din carbură cimentată, care este potrivită pentru degroșarea de mare viteză și semifinisarea tăierilor medii și grele.
În comparație cu alte metode de acoperire, metoda cvd nu numai că are avantajele unui echipament simplu, proces matur, dar are și următoarele avantaje:
Există multe tipuri de sedimente, care pot fi acoperite cu metale, aliaje, carburi, nitruri, boruri, oxizi, nitruri de carbon, nitruri de oxigen, nitruri de hidrocarburi etc. Cu permeabilitate și uniformitate ridicate, pot fi obținute acoperiri multistrat cu diferite țesuturi, iar grosimea acoperirii este uniformă. Rata de depunere este mare și ușor de controlat. Acoperirea are puritate ridicată și granule fine și dense. Aderența puternică poate obține o acoperire mai groasă. Cost redus de proces, potrivit pentru producția de masă.
PVD

Metoda PVD este de a îndepărta materialele din sursele țintă prin forme fizice, cum ar fi evaporarea sau pulverizarea, și apoi de a depune acești ioni de vapori energetici pe substrat sau suprafața părții pentru a forma un strat de film prin spațiu de vid sau semi-vid. Reacția vaporilor a atomilor de metal evaporați sau pulverizați duce la depunerea compușilor necesari pe suprafața sculei. acoperirea pvd poate fi acoperită cu nitrură de titan, nitrură de carbon de titan, compuși de azot de aluminiu titan, precum și diferite metale refractare de carburi și nitruri.
Tehnologia PVD este utilizată în principal în tratarea suprafeței sculelor integrale din carbură cimentată și a sculelor din oțel pentru scule de mare viteză. A fost utilizat pe scară largă în tratarea de acoperire a bitului din carbură cimentată, freză, alez, robinet, unealtă cu formă specială, unealtă de sudură și așa mai departe.
MT-CVD

Acoperirea tcn cu morfologie cristalină fibroasă densă poate fi obținută prin depunere chimică în vapori la temperatură medie (MT-CVD) la 700 ~ 900 ℃. Grosimea acoperirii poate ajunge la 8 ~ 10μm și poate fi a2o3、stan pe stratul de suprafață prin tehnologia cvd.
Lama de acoperire MT-CVD este potrivită pentru viteză mare, temperatură ridicată, încărcare mare, condiții de tăiere uscată, durata sa de viață este de aproximativ două ori mai mare decât cea a lamei de acoperire obișnuite. Principalul dezavantaj cvd al metodei este că temperatura de depunere este ridicată, iar recoacerea și deformarea sculei vor avea loc atunci când unealta din oțel pentru scule de mare viteză este acoperită. Deci, unealta depusă trebuie stinsă.
Drepturi de autor © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Toate drepturile rezervate