Cultri Coquinarii Ruitai: Fons Praestantissimus Cultrorum Coquinariorum ex Sinis, ad Personam Factos
Lingua
Cultri Coquinarii Ruitai: Fons Praestantissimus Cultrorum Coquinariorum ex Sinis, ad Personam Factos
Duae species instrumenti communis efficiunt methodi: vapor chemicus depositio (cvd) et depositio vapor corporis (pvd) in praesenti. Nuper nonnullis novis processibus efficiens apparuerunt quae bonam applicationem exspectant.
CVD
CVD methodus, quae ad depositionem atomicam pertinet, est methodus formandi iacum solidum depositionis in superficie matricis calefactionis utendo vaporibus, hydrogeniis et aliis elementis chemicis metallicis ad caliditatem caliditatis 950~1050℃. Processus tres gradus includit: vaporizationem materiae, onerationem ad viciniam matricis et formationem obductio in matrice.
Inter omnia genera methodorum cvd, vacuum ion bombardarum et magnetron ion spargendi reactionem sunt maxime adhibitae. Cvd technologia maxime adhibita est ad superficiem instrumentorum secantium carbidam coagulo, quae apta est ad celeritatem altam asperam et semi-finitionem mediae et incisionis gravis.
Comparata cum aliis methodis efficiens, cvd methodus non solum commoda simplicis instrumenti, maturae processus, sed etiam sequentia commoda habet;
Faeces multae sunt species, quae obduci possunt metallis, admixtionibus, carbides, nitrides, borides, oxydi, nitrides carbonis, nitrides oxygenii, nitrides hydro-carbonis, etc. Cum summa permeability et uniformitas, multilayer tunicas cum texturis diversis obtineri potest, et crassitudo coatingis uniformis est. Depositio rate est princeps et facilis ad imperium. Habet altam litura puritatem et grana subtilia et densa. Fortis adhaesio crassiorem efficiat. Processus humilis sumptus, massa productioni idoneus.
PVD
PVD methodus est materias e fontibus target removere per formas physicas ut evaporatio vel putris, et deinde has energetes vapores in substrata vel ex parte superficiem depone ut iacum movendi per spatium vacuum vel semi-vacuum formet. Vapor reactionem evaporationis vel depuratorum atomorum metallicarum ducit ad depositionem compositorum in superficie instrumenti requisiti. Pvd coating potest cum titanio nitride, titanium carbonis nitride, aluminium compositum titanium nitrogenium, necnon varia refractionis metallis carbides et nitrides.
PVD technologia maxime adhibita est in curatione superficiei instrumentorum carbidi compaginatorum integralium et instrumentorum ferramentorum summa celeritate instrumentorum. Multus usus est in curatione efficiens de carbide coagmentatis, dromonem molarem, reamer, sonum, instrumentum speciale informatum, instrumentum glutinum et cetera.
MT-CVD
Ten in tunica fibrosa morphologia crystallina densa obtineri potest a depositione vaporum chemicorum medio temperatorum (MT-CVD) ad 700~ 900℃. Crassitudo tunicae 8~10µm attingere potest, et a2o3、 stannum in superficie iacuit per cvd technicae artis.
MT-CVD ferrum efficiens idoneum est ad celeritatem excelsum, caliditas, magna onera, condiciones sectionis aridae, vita eius est duplo altior quam ferrum tunicae ordinariae. Cvd principale Incommodum methodi est quod temperatura depositio alta est, et instrumentum furnum et deformatio erit cum instrumentum ferri altum celeritatem liniatur. Instrumentum itaque depositum extingui debet.
Iura omnia reservantur. © MMXXII Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd.
