रुईताई भान्सा चक्कुहरू: चीनबाट कस्टम भान्सा चक्कु सेटको लागि तपाईंको प्रमुख स्रोत
भाषा
रुईताई भान्सा चक्कुहरू: चीनबाट कस्टम भान्सा चक्कु सेटको लागि तपाईंको प्रमुख स्रोत
त्यहाँ दुई प्रकारका सामान्य उपकरण कोटिंग विधिहरू छन्: रासायनिक वाष्प निक्षेप (cvd) र भौतिक भाप निक्षेप (pvd) हाल।. हालैका वर्षहरूमा, केही नयाँ कोटिंग प्रक्रियाहरू देखा परेका छन्, जसमा राम्रो आवेदन सम्भावना छ.
CVD
CVD विधि, जुन आणविक निक्षेपसँग सम्बन्धित छ, 950 ~ 1050 ℃ को उच्च तापक्रममा वाष्प, हाइड्रोजन र धातुको हलाइडको अन्य रासायनिक घटकहरू प्रयोग गरेर तताउने म्याट्रिक्सको सतहमा ठोस निक्षेप तह बनाउने विधि हो।. प्रक्रियाले तीन चरणहरू समावेश गर्दछ: सामग्रीको वाष्पीकरण, म्याट्रिक्सको वरपर ढुवानी र म्याट्रिक्समा ओभरलेको गठन।.
सबै प्रकारका सीभीडी विधिहरू मध्ये, भ्याकुम आयन बमबारी र म्याग्नेट्रोन आयन प्रतिक्रिया स्प्रेइङ्ग सबैभन्दा बढी प्रयोग गरिन्छ।. cvd टेक्नोलोजी मुख्यतया सिमेन्टेड कार्बाइड काट्ने उपकरणहरूको सतह कोटिंगको लागि प्रयोग गरिन्छ, जुन उच्च गति रफिंग र मध्यम र भारी काट्ने अर्ध-फिनिशिंगको लागि उपयुक्त छ।.
अन्य कोटिंग विधिहरूको तुलनामा, cvd विधिमा साधारण उपकरण, परिपक्व प्रक्रियाका फाइदाहरू मात्र छैनन्, तर निम्न फाइदाहरू पनि छन्:
त्यहाँ धेरै प्रकारका तलछटहरू छन्, जसलाई धातुहरू, मिश्र धातुहरू, कार्बाइडहरू, नाइट्राइडहरू, बोराइडहरू, अक्साइडहरू, कार्बन नाइट्राइडहरू, अक्सिजन नाइट्राइडहरू, हाइड्रो-कार्बन नाइट्राइडहरू, इत्यादिको साथ लेपित गर्न सकिन्छ: उच्च पारगम्यता र एकरूपता संग, विभिन्न तन्तुहरु संग multilayer कोटिंग्स प्राप्त गर्न सकिन्छ, र कोटिंग मोटाई एक समान छ. निक्षेप दर उच्च र नियन्त्रण गर्न सजिलो छ. कोटिंग उच्च शुद्धता र राम्रो र घना अन्न छ. बलियो आसंजनले बाक्लो कोटिंग प्राप्त गर्न सक्छ. कम प्रक्रिया लागत, ठूलो उत्पादनको लागि उपयुक्त.
PVD
PVD विधि भनेको वाष्पीकरण वा स्पटरिंग जस्ता भौतिक रूपहरूद्वारा लक्षित स्रोतहरूबाट सामग्रीहरू हटाउनु हो, र त्यसपछि यी ऊर्जावान वाष्प आयनहरूलाई सब्सट्रेट वा अंश सतहमा भ्याकुम वा अर्ध-भ्याकुम स्पेस मार्फत फिल्म तह बनाउनको लागि जम्मा गर्नु हो।. वाष्पीकरण वा स्पटर गरिएको धातु परमाणुहरूको वाष्प प्रतिक्रियाले उपकरणको सतहमा आवश्यक यौगिकहरूको जम्मा हुन्छ।. pvd कोटिंग टाइटेनियम नाइट्राइड, टाइटेनियम कार्बन नाइट्राइड, एल्युमिनियम टाइटेनियम नाइट्रोजन यौगिकहरू, साथै कार्बाइड र नाइट्राइडका विभिन्न दुर्दम्य धातुहरूसँग लेपित गर्न सकिन्छ।.
PVD प्रविधि मुख्यतया अभिन्न सिमेन्ट कार्बाइड उपकरण र उच्च गति उपकरण स्टील उपकरण को सतह उपचार मा प्रयोग गरिन्छ।. यो व्यापक रूपमा सिमेन्ट कार्बाइड बिट, मिलिङ कटर, reamer, ट्याप, विशेष आकारको उपकरण, वेल्डिंग उपकरण र यति को कोटिंग उपचार मा प्रयोग गरिएको छ।.
MT-CVD
घना रेशेदार क्रिस्टलीय आकारविज्ञानको साथ tcn कोटिंग मध्यम तापमान रासायनिक वाष्प निक्षेप (MT-CVD) 700 ~ 900 ℃ मा प्राप्त गर्न सकिन्छ।. कोटिंग मोटाई 8 ~ 10μm पुग्न सक्छ, र cvd प्रविधि द्वारा सतह तहमा a2o3、tin हुन सक्छ.
MT-CVD कोटिंग ब्लेड उच्च गति, उच्च तापमान, ठूलो भार, सुख्खा काट्ने अवस्थाहरूको लागि उपयुक्त छ, यसको जीवन साधारण कोटिंग ब्लेड भन्दा लगभग दुई गुणा उच्च छ।. cvd विधिको मुख्य कमजोरी भनेको डिपोजिसन तापमान उच्च छ, र उच्च गति उपकरण स्टील उपकरण लेपित हुँदा उपकरण annealing र विरूपण हुनेछ।. त्यसैले जम्मा गरिएको उपकरण निभाउनु पर्छ.
प्रतिलिपि अधिकार © २०२२ याङजियाङ याङडोङ रुइताई हार्डवेयर उत्पादन कं, लिमिटेड | सबै अधिकार सुरक्षित
