Pašlaik ir divu veidu instrumentu pārklāšanas metodes: ķīmiskā tvaiku pārklāšana (cvd) un fizikālā tvaiku pārklāšana (pvd). Pēdējos gados ir parādījušies daži jauni pārklāšanas procesi, kuriem ir labas pielietošanas iespējas.
CVD

CVD metode, kas pieder pie atomu nogulsnēšanās, ir cieta nogulsnēšanās slāņa veidošanas metode uz karsējamās matricas virsmas, izmantojot tvaikus, ūdeņradi un citus metālu halogenīdu ķīmiskos komponentus augstā temperatūrā 950-1050 ℃. Process ietver trīs posmus: materiāla iztvaicēšanu, transportēšanu uz matricas tuvumā un pārklājuma veidošanos uz matricas.
Starp visu veidu cvd metodēm visvairāk tiek izmantota vakuuma jonu bombardēšana un magnetrona jonu reakcijas izsmidzināšana. cvd tehnoloģija galvenokārt tiek izmantota cementēta karbīda griezējinstrumentu virsmas pārklāšanai, kas ir piemērota liela ātruma rupjmašīnai un vidējas un smagas griešanas pusapstrādei.
Salīdzinot ar citām pārklāšanas metodēm, cvd metodei ir ne tikai vienkārša aprīkojuma, nobrieduša procesa priekšrocības, bet arī šādas priekšrocības:
Ir daudz veidu nogulumu, kurus var pārklāt ar metāliem, sakausējumiem, karbīdiem, nitrīdiem, borīdiem, oksīdiem, oglekļa nitrīdiem, skābekļa nitrīdiem, ogļūdeņražu nitrīdiem utt.: Ar augstu caurlaidību un viendabīgumu var iegūt daudzslāņu pārklājumus ar dažādiem audiem, un pārklājuma biezums ir vienāds. Nogulsnēšanās ātrums ir augsts un viegli kontrolējams. Pārklājumam ir augsta tīrības pakāpe un smalki un blīvi graudi. Spēcīga saķere var iegūt biezāku pārklājumu. Zemas procesa izmaksas, piemērotas masveida ražošanai.
PVD

PVD metode ir materiālu noņemšana no mērķa avotiem ar fiziskām formām, piemēram, iztvaikošanu vai izsmidzināšanu, un pēc tam šos enerģētiskos tvaiku jonus nogulsnējot uz substrāta vai daļas virsmas, veidojot plēves slāni caur vakuuma vai pusvakuuma telpu. Iztvaicētu vai izsmidzinātu metāla atomu tvaiku reakcija noved pie nepieciešamo savienojumu nogulsnēšanās uz instrumenta virsmas. pvd pārklājumu var pārklāt ar titāna nitrīdu, titāna oglekļa nitrīdu, alumīnija titāna slāpekļa savienojumiem, kā arī dažādiem ugunsizturīgiem karbīdu un nitrīdu metāliem.
PVD tehnoloģiju galvenokārt izmanto integrētu cementēta karbīda instrumentu un ātrgaitas instrumentu tērauda instrumentu virsmas apstrādē. To plaši izmanto cementēta karbīda uzgaļu, frēzēšanas, rīves, krāna, īpašas formas instrumenta, metināšanas instrumenta un tā tālāk pārklājuma apstrādē.
MT-CVD

Tcn pārklājumu ar blīvu šķiedru kristālisku morfoloģiju var iegūt ar vidējas temperatūras ķīmisko tvaiku pārklāšanu (MT-CVD) 700–900 ℃. Pārklājuma biezums var sasniegt 8 ~ 10 μm, un tas var būt a2o3、alva uz virsmas slāņa, izmantojot cvd tehnoloģiju.
MT-CVD pārklājuma asmens ir piemērots lielam ātrumam, augstai temperatūrai, lielai slodzei, sausiem griešanas apstākļiem, tā kalpošanas laiks ir aptuveni divas reizes ilgāks nekā parastajam pārklājuma asmenim. cvd galvenais metodes trūkums ir tas, ka nogulsnēšanas temperatūra ir augsta, un instrumenta atkausēšana un deformācija notiks, kad ātrgaitas instrumenta tērauda instruments ir pārklāts. Tātad nogulsnētais instruments ir jādzēš.
Autortiesības © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Visas tiesības aizsargātas.