Ruitai асхана пышақтары: Қытайдан келген арнайы асхана пышақтарының негізгі көзі
Тіл
Ruitai асхана пышақтары: Қытайдан келген арнайы асхана пышақтарының негізгі көзі
Құралмен қаптау әдістерінің екі түрі бар: қазіргі кезде химиялық бу тұндыру (cvd) және физикалық бу тұндыру (pvd). Соңғы жылдары жақсы қолдану перспективасы бар жаңа жабу процестері пайда болды.
CVD
Атомдық тұндыруға жататын CVD әдісі 950 ~ 1050 ℃ жоғары температурада металл галогенидінің буын, сутегін және басқа химиялық компоненттерін пайдалану арқылы қыздыру матрицасының бетінде қатты тұндыру қабатын қалыптастыру әдісі болып табылады. Процесс үш кезеңді қамтиды: материалды булану, матрица маңына тасымалдау және матрицада қабаттасуды қалыптастыру.
CVD әдістерінің барлық түрлерінің ішінде вакуумды ионды бомбалау және магнетронды ион реакциясын бүрку ең көп қолданылады. cvd технологиясы негізінен цементтелген карбидті кескіш құралдардың бетін жабу үшін қолданылады, ол жоғары жылдамдықты өрескел өңдеуге және орташа және ауыр кесуді жартылай өңдеуге жарамды.
Басқа жабу әдістерімен салыстырғанда, cvd әдісі қарапайым жабдықтың, жетілген процестің артықшылықтарына ие емес, сонымен қатар келесі артықшылықтарға ие:
Шөгінділердің металдармен, қорытпалармен, карбидтермен, нитридтермен, боридтермен, оксидтермен, көміртегі нитридтерімен, оттегі нитридтерімен, көміртек нитридтерімен және т.б. жабуға болатын көптеген түрлері бар: Жоғары өткізгіштігі мен біркелкілігі кезінде әртүрлі тіндері бар көп қабатты жабындарды алуға болады, ал жабынның қалыңдығы біркелкі болады. Тұндыру жылдамдығы жоғары және бақылауға оңай. Қаптаманың жоғары тазалығы және ұсақ және тығыз дәндері бар. Күшті адгезия қалыңырақ жабынды алуға мүмкіндік береді. Төмен технологиялық шығындар, жаппай өндіріске жарамды.
PVD
PVD әдісі булану немесе шашырату сияқты физикалық формалар арқылы мақсатты көздерден материалдарды алып тастау, содан кейін вакуумдық немесе жартылай вакуумдық кеңістік арқылы пленка қабатын қалыптастыру үшін бұл энергетикалық бу иондарын субстратқа немесе бөлік бетіне орналастыру. Буланған немесе шашыраған металл атомдарының бу реакциясы құралдың бетінде қажетті қосылыстардың шөгуіне әкеледі. pvd жабыны титан нитриді, титан көміртегі нитриді, алюминий титан азот қосылыстарымен, сондай-ақ карбидтер мен нитридтердің әртүрлі отқа төзімді металдарымен қапталуы мүмкін.
PVD технологиясы негізінен интегралды цементтелген карбидті құралдар мен жоғары жылдамдықты аспап болат құралдарының бетін өңдеуде қолданылады. Ол цементтелген карбидті қашауды, фрезаны, рейкті, шүмектерді, арнайы пішінді құралды, дәнекерлеу құралын және т.б. жабындарды өңдеуде кеңінен қолданылады.
MT-CVD
Тығыз талшықты кристалды морфологиясы бар tcn жабыны 700 ~ 900 ℃ температурада орташа температурада химиялық бу тұндыру (MT-CVD) арқылы алынуы мүмкін. Жабынның қалыңдығы 8~10мкм жетуі мүмкін және cvd технологиясы бойынша беткі қабатта a2o3, қалайы болуы мүмкін.
MT-CVD жабын пышағы жоғары жылдамдыққа, жоғары температураға, үлкен жүктемеге, құрғақ кесу жағдайларына жарамды, оның қызмет ету мерзімі қарапайым жабын пышағынан шамамен екі есе жоғары. cvd әдістің негізгі кемшілігі тұндыру температурасының жоғары болуы болып табылады және жоғары жылдамдықты аспап болат құралымен қапталған кезде құралдың күйдірілуі мен деформациясы орын алады. Осылайша, салынған құралды сөндіру керек.
Copyright © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Барлық құқықтар қорғалған
