দুটি ধরণের সাধারণ টুল লেপ পদ্ধতি রয়েছে: বর্তমানে রাসায়নিক বাষ্প জমা (সিভিডি) এবং শারীরিক বাষ্প জমা (পিভিডি)। সাম্প্রতিক বছরগুলিতে, কিছু নতুন আবরণ প্রক্রিয়া উপস্থিত হয়েছে, যার একটি ভাল প্রয়োগের সম্ভাবনা রয়েছে।
সিভিডি

CVD পদ্ধতি, যা পারমাণবিক জমার অন্তর্গত, 950~1050℃ উচ্চ তাপমাত্রায় বাষ্প, হাইড্রোজেন এবং ধাতব হ্যালাইডের অন্যান্য রাসায়নিক উপাদানগুলি ব্যবহার করে হিটিং ম্যাট্রিক্সের পৃষ্ঠে কঠিন জমা স্তর তৈরি করার একটি পদ্ধতি। প্রক্রিয়াটির তিনটি ধাপ রয়েছে: উপাদানের বাষ্পীভবন, ম্যাট্রিক্সের আশেপাশে পরিবহন এবং ম্যাট্রিক্সে ওভারলে গঠন।
সমস্ত ধরণের সিভিডি পদ্ধতির মধ্যে, ভ্যাকুয়াম আয়ন বোমাবাজি এবং ম্যাগনেট্রন আয়ন প্রতিক্রিয়া স্প্রে করা সবচেয়ে বেশি ব্যবহৃত হয়। সিভিডি প্রযুক্তি প্রধানত সিমেন্টেড কার্বাইড কাটিয়া সরঞ্জামগুলির পৃষ্ঠের আবরণের জন্য ব্যবহৃত হয়, যা উচ্চ গতির রাফিং এবং মাঝারি এবং ভারী কাটার আধা-সমাপ্তির জন্য উপযুক্ত।
অন্যান্য আবরণ পদ্ধতির সাথে তুলনা করে, সিভিডি পদ্ধতিতে কেবল সহজ সরঞ্জাম, পরিপক্ক প্রক্রিয়ার সুবিধাই নেই, তবে নিম্নলিখিত সুবিধাগুলিও রয়েছে:
অনেক ধরণের পলল রয়েছে, যা ধাতু, খাদ, কার্বাইড, নাইট্রাইড, বোরাইড, অক্সাইড, কার্বন নাইট্রাইড, অক্সিজেন নাইট্রাইড, হাইড্রো-কার্বন নাইট্রাইড ইত্যাদি দিয়ে লেপা হতে পারে: উচ্চ ব্যাপ্তিযোগ্যতা এবং অভিন্নতার সাথে, বিভিন্ন টিস্যু সহ মাল্টিলেয়ার আবরণ পাওয়া যেতে পারে এবং আবরণের বেধ অভিন্ন। জমার হার উচ্চ এবং নিয়ন্ত্রণ করা সহজ। আবরণ উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং সূক্ষ্ম এবং ঘন শস্য আছে. শক্তিশালী আনুগত্য ঘন আবরণ পেতে পারেন. কম প্রক্রিয়া খরচ, ভর উত্পাদন জন্য উপযুক্ত.
পিভিডি

PVD পদ্ধতি হল বাষ্পীভবন বা স্পুটারিং এর মতো শারীরিক আকারের মাধ্যমে লক্ষ্য উৎস থেকে উপাদানগুলি অপসারণ করা, এবং তারপর এই শক্তিশালী বাষ্প আয়নগুলিকে সাবস্ট্রেট বা অংশ পৃষ্ঠের উপর জমা করে ভ্যাকুয়াম বা আধা-শূন্য স্থানের মাধ্যমে একটি ফিল্ম স্তর তৈরি করা। বাষ্পীভূত বা ছিদ্রযুক্ত ধাতব পরমাণুর বাষ্প প্রতিক্রিয়া টুল পৃষ্ঠে প্রয়োজনীয় যৌগগুলির জমার দিকে পরিচালিত করে। পিভিডি আবরণ টাইটানিয়াম নাইট্রাইড, টাইটানিয়াম কার্বন নাইট্রাইড, অ্যালুমিনিয়াম টাইটানিয়াম নাইট্রোজেন যৌগ, সেইসাথে কার্বাইড এবং নাইট্রাইডের বিভিন্ন অবাধ্য ধাতুগুলির সাথে প্রলিপ্ত হতে পারে।
PVD প্রযুক্তি প্রধানত অবিচ্ছেদ্য সিমেন্টেড কার্বাইড সরঞ্জাম এবং উচ্চ গতির টুল ইস্পাত সরঞ্জাম পৃষ্ঠ চিকিত্সা ব্যবহৃত হয়. এটি সিমেন্টেড কার্বাইড বিট, মিলিং কাটার, রিমার, ট্যাপ, বিশেষ-আকৃতির সরঞ্জাম, ঢালাইয়ের সরঞ্জাম এবং আরও অনেক কিছুর লেপ চিকিত্সায় ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়েছে।
এমটি-সিভিডি

ঘন আঁশযুক্ত স্ফটিক আকারের tcn আবরণ 700~900℃ এ মাঝারি তাপমাত্রার রাসায়নিক বাষ্প জমা (MT-CVD) দ্বারা প্রাপ্ত করা যেতে পারে। আবরণ বেধ 8 ~ 10μm পৌঁছতে পারে, এবং cvd প্রযুক্তি দ্বারা পৃষ্ঠ স্তরে a2o3、tin হতে পারে।
MT-CVD লেপ ব্লেড উচ্চ গতি, উচ্চ তাপমাত্রা, বড় লোড, শুকনো কাটার অবস্থার জন্য উপযুক্ত, এর জীবনকাল সাধারণ আবরণ ব্লেডের তুলনায় প্রায় দ্বিগুণ বেশি। পদ্ধতির cvd প্রধান অপূর্ণতা হল যে জমা তাপমাত্রা উচ্চ, এবং টুল annealing এবং বিকৃতি ঘটবে যখন উচ্চ গতির টুল ইস্পাত টুল লেপা হয়. তাই জমা হাতিয়ার নিভিয়ে দিতে হবে।
কপিরাইট © ২০২২ ইয়াংজিয়াং ইয়াংডং রুইতাই হার্ডওয়্যার প্রোডাক্টস কোং লিমিটেড | সর্বস্বত্ব সংরক্ষিত