Antsy an-dakozia Ruitai: Loharano voalohany ho an'ny antsy lakozia namboarina avy any Shina
fiteny
Antsy an-dakozia Ruitai: Loharano voalohany ho an'ny antsy lakozia namboarina avy any Shina
Misy karazany roa ny fomba famenoana fitaovana mahazatra: ny fametrahana etona simika (cvd) sy ny fametrahana etona ara-batana (pvd) amin'izao fotoana izao. Tao anatin'ny taona vitsivitsy izay, nisy dingana coating vaovao niseho, izay manana fanantenana tsara fampiharana.
CVD
Ny fomba CVD, izay an'ny deposition atomika, dia fomba iray hamoronana sosona matevina amin'ny tampon'ny fanafanana matrix amin'ny fampiasana etona, hydrogène ary singa simika hafa amin'ny halide metaly amin'ny hafanana avo 950 ~ 1050 ℃. Ny dingana dia misy dingana telo: etona ny akora, fitaterana mankany amin'ny manodidina ny matrix ary ny fananganana ny overlay amin'ny matrix.
Amin'ireo karazana fomba cvd rehetra, ny fanapoahana baomba ion vacuum sy ny famafazana fanehoan-kevitry ny magnetron ion no tena ampiasaina. Ny teknolojia cvd dia ampiasaina indrindra amin'ny fametahana ny fitaovana fametahana karbida vita amin'ny simenitra, izay mety amin'ny fametahana haingam-pandeha sy semi-finishing ny fanapahana antonony sy mavesatra.
Raha ampitahaina amin'ny fomba coating hafa, ny fomba cvd dia tsy manana tombony amin'ny fitaovana tsotra, dingana matotra, fa manana tombony manaraka ihany koa:
Misy karazany maro ny antsanga, izay azo rakotra metaly, alloys, carbide, nitride, borides, oxides, carbon nitride, oxygen nitride, hydro-carbon nitride, sns: Miaraka amin'ny permeability avo sy ny fitoviana, dia azo atao ny coating multilayer misy tavy samihafa, ary mitovy ny hatevin'ny coating. Ny tahan'ny fametrahana dia avo ary mora fehezina. Ny coating dia manana fahadiovana ambony sy voamadinika tsara sy matevina. Ny adhesion matanjaka dia afaka mahazo coating matevina kokoa. Vidin'ny dingana ambany, mety amin'ny famokarana faobe.
PVD
Ny fomba PVD dia ny manala ny fitaovana avy amin'ny loharano kendrena amin'ny alàlan'ny endrika ara-batana toy ny evaporation na sputtering, ary avy eo mametraka ireo etona etona ireo eny amin'ny substrate na ampahany amin'ny faritra mba hamoronana sosona sarimihetsika amin'ny alàlan'ny vacuum na semi-vacuum space. Ny fihetsiky ny etona amin'ny atoma metaly mitsambikina na mipoitra dia mitarika amin'ny fametrahana ireo zavatra ilaina amin'ny fitaovana. Ny coating pvd dia azo rakofana amin'ny titane nitride, titane carbon nitride, aluminium titane nitrogen compounds, ary koa ny metaly refractory isan-karazany amin'ny carbide sy nitride.
Ny teknolojia PVD dia ampiasaina indrindra amin'ny fitsaboana amin'ny fitaovana karbida vita amin'ny simenitra sy fitaovana vy haingam-pandeha. Izany no be mpampiasa amin'ny coating fitsaboana ny simenitra carbide bit, fikosoham-bary cutter, reamer, paompy, manokana miendrika fitaovana, welding fitaovana sy ny sisa.
MT-CVD
Ny tcn coating amin'ny fibrous fibrous morphology kristaly azo azo amin'ny antonony hafanana simika etona deposition (MT-CVD) amin'ny 700 ~ 900 ℃. Ny hatevin'ny coating dia mety hahatratra 8 ~ 10μm, ary mety ho a2o3, vifotsy eo amin'ny sosona ambonin'ny cvd teknolojia.
MT-CVD coating lelan-tsabatra dia mety amin'ny hafainganam-pandeha ambony, ny mari-pana ambony, ny entana lehibe, ny fanapahana maina fepetra, ny fiainany dia avo roa heny noho ny mahazatra coating lelan-tsabatra. cvd ny tena lesoka amin'ny fomba dia ny mari-pana deposition dia avo, ary ny fitaovana annealing sy ny deformation dia hitranga rehefa ny hafainganam-pandeha avo fitaovana vy dia mifono. Noho izany dia tsy maintsy vonoina ny fitaovana napetraka.
Copyright © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Zo rehetra voatokana
