دوه ډوله عام وسیلې د پوښ کولو میتودونه شتون لري: د کیمیاوي بخار جمع کول (cvd) او د فزیکي بخار جمع کول (pvd). په وروستیو کلونو کې، د کوټ کولو ځینې نوي پروسې راڅرګند شوي، کوم چې د ښه غوښتنلیک امکانات لري.
CVD

د CVD میتود، چې د اټومي زیرمو پورې اړه لري، د 950 ~ 1050 ℃ په لوړه تودوخه کې د بخار، هایدروجن او د فلزي هیلایډ نورو کیمیاوي اجزاوو په کارولو سره د تودوخې میټریکس په سطح کې د جامد زیرمو پرت رامینځته کولو میتود دی. په پروسه کې درې مرحلې شاملې دي: د موادو بخار کول، د میټریکس شاوخوا ته لیږدول او په میټریکس باندې د پوښ جوړول.
د هر ډول cvd میتودونو په مینځ کې ، د ویکیوم آئن بمبارۍ او د میګنټرون آئن عکس العمل سپری کول خورا کارول کیږي. د cvd ټیکنالوژي په عمده ډول د سیمنټ کاربایډ د پرې کولو وسیلو د سطحې پوښلو لپاره کارول کیږي ، کوم چې د لوړ سرعت رګ کولو او د متوسط او درنو پرې کولو نیمه بشپړولو لپاره مناسب دی.
د نورو کوټینګ میتودونو په پرتله ، د cvd میتود نه یوازې د ساده تجهیزاتو ګټې ، بالغ پروسې ، بلکه لاندې ګټې هم لري:
ډیری ډوله سلادونه شتون لري، کوم چې د فلزاتو، الیاژ، کاربایډونو، نايټرایډونو، بورایډونو، اکسایډونو، کاربن نایټرایډونو، اکسیجن نایټرایډونو، هایدرو کاربن نایټرایډونو او داسې نورو سره پوښل کیدی شي: د لوړې وړتیا او یونیفورم سره ، د مختلف نسجونو سره څو پرت کوټینګونه ترلاسه کیدی شي ، او د کوټینګ ضخامت یونیفورم دی. د زیرمو کچه لوړه او د کنټرول لپاره اسانه ده. پوښ لوړ پاکوالی او ښه او ګنده دانې لري. پیاوړې چپک کولی شي ژور پوښ ترلاسه کړي. د پروسې ټیټ لګښت، د ډله ایز تولید لپاره مناسب.
PVD

د PVD طریقه دا ده چې د هدف سرچینې څخه مواد د فزیکي شکلونو لکه تبخیر یا تودوخې له لارې لرې کړي، او بیا دا انرژي لرونکي بخار ایونونه په سبسټریټ یا برخې سطح کې زیرمه کړي ترڅو د خلا یا نیمه خلا له لارې د فلم پرت جوړ کړي. د تبخیر شوي یا سپک شوي فلزي اتومونو د بخار عکس العمل د وسیلې په سطحه د اړین مرکبونو د راټولیدو لامل کیږي. د pvd کوټ کول د ټایټانیوم نایټرایډ ، ټایټانیوم کاربن نایټروډ ، المونیم ټایټانیوم نایټروجن مرکباتو ، او همدارنګه د کاربایډونو او نایټریډونو مختلف انعکاس فلزاتو سره پوښل کیدی شي.
د PVD ټیکنالوژي په عمده ډول د بشپړ سیمنټ کاربایډ وسیلو او د لوړ سرعت وسیلې فولادو وسیلو د سطحې درملنې کې کارول کیږي. دا په پراخه کچه د سیمنټ کاربایډ بټ ، ملنګ کټر ، ریمر ، نل ، ځانګړي شکل لرونکي وسیلې ، ویلډینګ وسیلې او داسې نور د پوښ کولو درملنې کې کارول شوي.
MT-CVD

د tcn پوښاک د کثافاتو کریسټالین مورفولوژي سره په 700 ~ 900 ℃ کې د متوسط حرارت کیمیاوي بخار ذخیره (MT-CVD) لخوا ترلاسه کیدی شي. د کوټینګ ضخامت کولی شي 8 ~ 10μm ته ورسیږي ، او د Cvd ټیکنالوژۍ په واسطه د سطحې پرت کې a2o3 tin کیدی شي.
د MT-CVD کوټینګ تیغ د لوړ سرعت ، لوړ تودوخې ، لوی بار ، وچ پرې کولو شرایطو لپاره مناسب دی ، د دې ژوند د عادي کوټینګ تیغ په پرتله دوه چنده لوړ دی. د cvd میتود اصلي نیمګړتیا دا ده چې د ذخیره کولو تودوخې لوړه ده ، او د وسیلې انیل کول او خرابول به هغه وخت رامینځته شي کله چې د لوړ سرعت وسیلې فولادو وسیله پوښل شي. نو زیرمه شوې وسیله باید وغورځول شي.
د چاپ حق © ۲۰۲۲ د یانګجیانګ یانګډونګ رویتای هارډویر محصولاتو شرکت، لمیټډ | ټول حقونه خوندي دي