Pisau Dapur Ruitai: Sumber Utama Anda untuk Set Pisau Dapur Kustom dari Tiongkok
Bahasa
Pisau Dapur Ruitai: Sumber Utama Anda untuk Set Pisau Dapur Kustom dari Tiongkok
Ada dua jenis metode pelapisan alat yang umum: deposisi uap kimia (cvd) dan deposisi uap fisik (pvd) saat ini. Dalam beberapa tahun terakhir, beberapa proses pelapisan baru telah muncul, yang memiliki prospek aplikasi yang baik.
CVD
Metode CVD, yang termasuk dalam deposisi atom, adalah metode pembentukan lapisan deposisi padat pada permukaan matriks pemanas dengan menggunakan uap, hidrogen, dan komponen kimia lainnya dari halida logam pada suhu tinggi 950~1050℃. Prosesnya meliputi tiga tahap: penguapan material, transportasi ke sekitar matriks dan pembentukan overlay pada matriks.
Di antara semua jenis metode cvd, pemboman ion vakum dan penyemprotan reaksi ion magnetron adalah yang paling banyak digunakan. teknologi cvd terutama digunakan untuk pelapisan permukaan alat pemotong karbida disemen, yang cocok untuk pengasaran kecepatan tinggi dan semi-finishing pemotongan sedang dan berat.
Dibandingkan dengan metode pelapisan lainnya, metode cvd tidak hanya memiliki keunggulan peralatan sederhana, proses matang, tetapi juga memiliki keunggulan sebagai berikut:
Ada banyak jenis sedimen, yang dapat dilapisi dengan logam, paduan, karbida, nitrida, borida, oksida, karbon nitrida, oksigen nitrida, hidro-karbon nitrida, dll: Dengan permeabilitas dan keseragaman yang tinggi, lapisan multilayer dengan jaringan yang berbeda dapat diperoleh, dan ketebalan lapisan seragam. Tingkat deposisi tinggi dan mudah dikendalikan. Lapisan memiliki kemurnian tinggi dan butiran halus dan padat. Adhesi yang kuat dapat memperoleh lapisan yang lebih tebal. Biaya proses rendah, cocok untuk produksi massal.
PVD
Metode PVD adalah untuk menghilangkan bahan dari sumber target dengan bentuk fisik seperti penguapan atau sputtering, dan kemudian menyimpan ion uap energik ini ke substrat atau permukaan bagian untuk membentuk lapisan film melalui ruang vakum atau semi-vakum. Reaksi uap dari atom logam yang menguap atau tergagap menyebabkan pengendapan senyawa yang diperlukan pada permukaan alat. lapisan pvd dapat dilapisi dengan titanium nitrida, titanium karbon nitrida, senyawa nitrogen titanium aluminium, serta berbagai logam tahan api karbida dan nitrida.
Teknologi PVD terutama digunakan dalam perawatan permukaan alat karbida disemen integral dan alat baja perkakas kecepatan tinggi. Ini telah banyak digunakan dalam perawatan pelapisan bit karbida yang disemen, pemotong penggilingan, alat untuk membesarkan lubang, keran, alat berbentuk khusus, alat las dan sebagainya.
MT-CVD
Lapisan tcn dengan morfologi kristal berserat padat dapat diperoleh dengan deposisi uap kimia suhu sedang (MT-CVD) pada 700~900℃. Ketebalan lapisan bisa mencapai 8~10μm, dan bisa menjadi a2o3、tin pada lapisan permukaan dengan teknologi cvd.
Pisau pelapis MT-CVD cocok untuk kecepatan tinggi, suhu tinggi, beban besar, kondisi pemotongan kering, umurnya sekitar dua kali lebih tinggi dari pisau pelapis biasa. Kelemahan utama cvd dari metode ini adalah bahwa suhu deposisi tinggi, dan anil pahat dan deformasi akan terjadi ketika pahat baja perkakas berkecepatan tinggi dilapisi. Jadi alat yang disimpan harus dipadamkan.
Hak Cipta © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Seluruh hak cipta dilindungi undang-undang
