दो प्रकार के सामान्य उपकरण कोटिंग विधियां हैं: रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) वर्तमान में। हाल के वर्षों में, कुछ नई कोटिंग प्रक्रियाएं सामने आई हैं, जिनमें आवेदन की अच्छी संभावना है।
सीवीडी

सीवीडी विधि, जो परमाणु जमाव से संबंधित है, 950 ~ 1050 ℃ के उच्च तापमान पर वाष्प, हाइड्रोजन और धातु हलाइड के अन्य रासायनिक घटकों का उपयोग करके हीटिंग मैट्रिक्स की सतह पर ठोस जमाव परत बनाने की एक विधि है। प्रक्रिया में तीन चरण शामिल हैं: सामग्री का वाष्पीकरण, मैट्रिक्स के आसपास के क्षेत्र में परिवहन और मैट्रिक्स पर ओवरले का गठन।
सभी प्रकार की cvd विधियों में, वैक्यूम आयन बमबारी और मैग्नेट्रोन आयन प्रतिक्रिया छिड़काव का सबसे अधिक उपयोग किया जाता है। सीवीडी तकनीक का उपयोग मुख्य रूप से सीमेंटेड कार्बाइड कटिंग टूल्स की सतह कोटिंग के लिए किया जाता है, जो मध्यम और भारी कटिंग की उच्च गति खुरदरापन और अर्ध-परिष्करण के लिए उपयुक्त है।
अन्य कोटिंग विधियों की तुलना में, सीवीडी विधि में न केवल सरल उपकरण, परिपक्व प्रक्रिया के फायदे हैं, बल्कि निम्नलिखित फायदे भी हैं:
कई प्रकार के तलछट होते हैं, जिन्हें धातुओं, मिश्र धातुओं, कार्बाइड्स, नाइट्राइड्स, बोराइड्स, ऑक्साइड्स, कार्बन नाइट्राइड्स, ऑक्सीजन नाइट्राइड्स, हाइड्रो-कार्बन नाइट्राइड्स आदि के साथ लेपित किया जा सकता है: उच्च पारगम्यता और एकरूपता के साथ, विभिन्न ऊतकों के साथ बहुपरत कोटिंग प्राप्त की जा सकती है, और कोटिंग की मोटाई एक समान होती है। जमा दर उच्च और नियंत्रित करने में आसान है। कोटिंग में उच्च शुद्धता और महीन और घने दाने होते हैं। मजबूत आसंजन मोटा कोटिंग प्राप्त कर सकता है। कम प्रक्रिया लागत, बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए उपयुक्त।
पीवीडी

पीवीडी विधि लक्ष्य स्रोतों से भौतिक रूपों जैसे वाष्पीकरण या स्पटरिंग द्वारा सामग्री को हटाने के लिए है, और फिर इन ऊर्जावान वाष्प आयनों को सब्सट्रेट या भाग की सतह पर वैक्यूम या अर्ध-वैक्यूम स्पेस के माध्यम से एक फिल्म परत बनाने के लिए जमा करना है। वाष्पित या स्पटरित धातु परमाणुओं की वाष्प प्रतिक्रिया उपकरण की सतह पर आवश्यक यौगिकों के जमाव की ओर ले जाती है। pvd कोटिंग को टाइटेनियम नाइट्राइड, टाइटेनियम कार्बन नाइट्राइड, एल्यूमीनियम टाइटेनियम नाइट्रोजन यौगिकों के साथ-साथ कार्बाइड और नाइट्राइड की विभिन्न दुर्दम्य धातुओं के साथ लेपित किया जा सकता है।
पीवीडी तकनीक का उपयोग मुख्य रूप से इंटीग्रल सीमेंटेड कार्बाइड टूल्स और हाई स्पीड टूल स्टील टूल्स के सतही उपचार में किया जाता है। इसका व्यापक रूप से सीमेंटेड कार्बाइड बिट, मिलिंग कटर, रीमर, टैप, विशेष आकार के उपकरण, वेल्डिंग टूल आदि के कोटिंग उपचार में उपयोग किया गया है।
एमटी-सीवीडी

घने रेशेदार क्रिस्टलीय आकारिकी के साथ टीसीएन कोटिंग मध्यम तापमान रासायनिक वाष्प जमाव (एमटी-सीवीडी) द्वारा 700 ~ 900 ℃ पर प्राप्त की जा सकती है। कोटिंग की मोटाई 8 ~ 10μm तक पहुंच सकती है, और cvd तकनीक द्वारा सतह परत पर a2o3、tin हो सकती है।
एमटी-सीवीडी कोटिंग ब्लेड उच्च गति, उच्च तापमान, बड़े भार, शुष्क काटने की स्थिति के लिए उपयुक्त है, इसका जीवन सामान्य कोटिंग ब्लेड की तुलना में लगभग दोगुना है। सीवीडी विधि का मुख्य दोष यह है कि बयान तापमान अधिक है, और उच्च गति उपकरण स्टील उपकरण लेपित होने पर उपकरण एनीलिंग और विरूपण होगा। तो जमा उपकरण बुझ जाना चाहिए।
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