Skieken tal-Kċina Ruitai: Is-Sors Ewlieni Tiegħek għal Sett ta' Skieken tal-Kċina Magħmulin apposta miċ-Ċina
Lingwa
Skieken tal-Kċina Ruitai: Is-Sors Ewlieni Tiegħek għal Sett ta' Skieken tal-Kċina Magħmulin apposta miċ-Ċina
Hemm żewġ tipi ta 'metodi ta' kisi ta 'għodda komuni: depożizzjoni kimika tal-fwar (cvd) u depożizzjoni fiżika tal-fwar (pvd) fil-preżent. F'dawn l-aħħar snin, dehru xi proċessi ta 'kisi ġodda, li għandhom prospett ta' applikazzjoni tajjeb.
CVD
Il-metodu CVD, li jappartjeni għal depożizzjoni atomika, huwa metodu ta 'formazzjoni ta' saff ta 'depożizzjoni solida fuq il-wiċċ tal-matriċi tat-tisħin bl-użu ta' fwar, idroġenu u komponenti kimiċi oħra ta 'alid tal-metall f'temperatura għolja ta' 950 ~ 1050 ℃. Il-proċess jinkludi tliet stadji: vaporizzazzjoni tal-materjal, trasport lejn il-viċinanza tal-matriċi u formazzjoni ta 'overlay fuq matriċi.
Fost kull tip ta 'metodi cvd, il-bumbardament tal-jone vakwu u l-bexx ta' reazzjoni tal-jone magnetron huma l-aktar użati. It-teknoloġija cvd tintuża prinċipalment għall-kisi tal-wiċċ ta 'għodod tal-qtugħ tal-karbur tas-siment, li huwa adattat għal roughing b'veloċità għolja u semi-finitura ta' qtugħ medju u tqil.
Meta mqabbel ma 'metodi oħra ta' kisi, il-metodu cvd mhux biss għandu l-vantaġġi ta 'tagħmir sempliċi, proċess matur, iżda għandu wkoll il-vantaġġi li ġejjin:
Hemm ħafna tipi ta 'sedimenti, li jistgħu jiġu miksija b'metalli, ligi, karburi, nitridi, boruri, ossidi, nitruri tal-karbonju, nitruri tal-ossiġnu, nitruri tal-idrokarbonju, eċċ: B'permeabilità għolja u uniformità, jistgħu jinkisbu kisjiet b'ħafna saffi b'tessuti differenti, u l-ħxuna tal-kisi hija uniformi. Ir-rata ta 'depożizzjoni hija għolja u faċli biex tikkontrolla. Il-kisi għandu purità għolja u ħbub fini u densi. Adeżjoni qawwija tista 'tikseb kisi eħxen. Spiża baxxa tal-proċess, adattat għall-produzzjoni tal-massa.
PVD
Il-metodu PVD huwa li jitneħħew materjali minn sorsi fil-mira b'forom fiżiċi bħal evaporazzjoni jew sputtering, u mbagħad jiddepożitaw dawn il-jonji tal-fwar enerġetiċi fuq is-sottostrat jew il-wiċċ tal-parti biex jiffurmaw saff tal-film permezz ta 'spazju vakwu jew semi-vakwu. Ir-reazzjoni tal-fwar ta 'atomi tal-metall evaporati jew sputtered twassal għad-depożizzjoni tal-komposti meħtieġa fuq il-wiċċ tal-għodda. kisi pvd jista 'jiġi miksi b'nitrur tat-titanju, nitrur tal-karbonju tat-titanju, komposti tan-nitroġenu tat-titanju tal-aluminju, kif ukoll diversi metalli refrattorji ta' karburi u nitruri.
It-teknoloġija PVD tintuża prinċipalment fit-trattament tal-wiċċ ta 'għodod integrali tal-karbur tas-siment u għodod tal-azzar tal-għodda b'veloċità għolja. Ġie użat ħafna fit-trattament tal-kisi ta 'bit tal-karbur tas-siment, cutter tat-tħin, reamer, vit, għodda b'forma speċjali, għodda tal-iwweldjar eċċ.
MT-CVD
Il-kisja tcn b'morfoloġija kristallina fibruża densa tista 'tinkiseb b'depożizzjoni ta' fwar kimiku f'temperatura medja (MT-CVD) f'700 ~ 900 ℃. Il-ħxuna tal-kisi tista 'tilħaq 8 ~ 10μm, u tista' tkun a2o3、tin fuq is-saff tal-wiċċ permezz tat-teknoloġija cvd.
Xafra tal-kisi MT-CVD hija adattata għal veloċità għolja, temperatura għolja, tagħbija kbira, kundizzjonijiet ta 'qtugħ niexef, il-ħajja tagħha hija madwar id-doppju ta' dik tax-xafra tal-kisi ordinarja. L-iżvantaġġ ewlieni cvd tal-metodu huwa li t-temperatura tad-depożizzjoni hija għolja, u l-ittemprar u d-deformazzjoni tal-għodda se jseħħu meta l-għodda tal-azzar tal-għodda b'veloċità għolja tkun miksija. Allura l-għodda depożitata għandha tiġi mitfija.
Drittijiet tal-awtur © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Id-Drittijiet kollha Riżervati
