Kuna aina mbili za mbinu za kawaida za upakaji wa zana: uwekaji wa mvuke wa kemikali (cvd) na uwekaji wa mvuke halisi (pvd) kwa sasa. Katika miaka ya hivi karibuni, baadhi ya michakato mpya ya mipako imeonekana, ambayo ina matarajio mazuri ya maombi.
CVD

Mbinu ya CVD, ambayo ni ya utuaji wa atomiki, ni mbinu ya kutengeneza safu dhabiti ya utuaji juu ya uso wa tumbo la joto kwa kutumia mvuke, hidrojeni na vipengele vingine vya kemikali vya halide ya chuma kwenye joto la juu la 950 ~ 1050 ℃. Mchakato huo ni pamoja na hatua tatu: uvukizi wa nyenzo, usafirishaji hadi karibu na tumbo na uundaji wa safu kwenye tumbo.
Miongoni mwa aina zote za mbinu za cvd, bombardment ya ioni ya utupu na unyunyiziaji wa ioni ya magnetron ndizo zinazotumika zaidi. teknolojia ya cvd hutumiwa hasa kwa ajili ya mipako ya uso wa zana za kukata CARBIDE, ambayo inafaa kwa kasi ya kasi ya juu na kumaliza nusu ya kukata kati na nzito.
Ikilinganishwa na njia zingine za mipako, njia ya cvd sio tu ina faida za vifaa rahisi, mchakato wa kukomaa, lakini pia ina faida zifuatazo:
Kuna aina nyingi za mchanga, ambazo zinaweza kufunikwa na metali, aloi, carbides, nitridi, boridi, oksidi, nitridi za kaboni, nitridi za oksijeni, nitridi za hydro-kaboni, n.k. Kwa upenyezaji wa juu na usawa, mipako ya multilayer yenye tishu tofauti inaweza kupatikana, na unene wa mipako ni sare. Kiwango cha uwekaji ni cha juu na rahisi kudhibiti. Mipako ina usafi wa juu na nafaka nzuri na mnene. Kushikamana kwa nguvu kunaweza kupata mipako nene. Gharama ya chini ya mchakato, inayofaa kwa uzalishaji wa wingi.
PVD

Mbinu ya PVD ni kuondoa nyenzo kutoka kwa vyanzo vinavyolengwa kwa maumbo halisi kama vile uvukizi au kumwagika, na kisha kuweka ioni hizi za mvuke wenye nguvu kwenye substrate au sehemu ya uso ili kuunda safu ya filamu kupitia nafasi ya utupu au nusu utupu. Mwitikio wa mvuke wa atomi za chuma zilizovukizwa au zilizotapakaa husababisha utuaji wa misombo inayohitajika kwenye uso wa chombo. mipako ya pvd inaweza kupakwa na nitridi ya titani, nitridi ya kaboni ya titani, misombo ya nitrojeni ya titani ya alumini, pamoja na metali mbalimbali za kinzani za carbides na nitridi.
Teknolojia ya PVD inatumika zaidi katika matibabu ya uso wa zana muhimu za CARBIDE na zana za chuma za kasi ya juu. Imetumika sana katika matibabu ya mipako ya biti ya CARBIDE, kikata cha kusaga, kiboreshaji, bomba, zana yenye umbo maalum, zana ya kulehemu na kadhalika.
MT-CVD

Mipako ya tcn yenye mofolojia mnene ya fuwele yenye nyuzinyuzi inaweza kupatikana kwa uwekaji wa mvuke wa kemikali ya halijoto ya wastani (MT-CVD) ifikapo 700~900℃. Unene wa mipako inaweza kufikia 8 ~ 10μm, na inaweza kuwa a2o3, bati kwenye safu ya uso kwa teknolojia ya cvd.
MT-CVD blade ya mipako inafaa kwa kasi ya juu, joto la juu, mzigo mkubwa, hali ya kukata kavu, maisha yake ni karibu mara mbili ya juu kuliko ile ya blade ya kawaida ya mipako. cvd drawback kuu ya njia ni kwamba joto utuaji ni ya juu, na chombo annealing na deformation itatokea wakati high speed chombo chuma chombo ni coated. Kwa hivyo chombo kilichowekwa lazima zizimishwe.
Hakimiliki © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. Haki Zote Zimehifadhiwa