Ekzistojnë dy lloje të metodave të zakonshme të veshjes së mjeteve: depozitimi kimik i avullit (cvd) dhe depozitimi fizik i avullit (pvd) aktualisht. Vitet e fundit janë shfaqur disa procese të reja veshjeje, të cilat kanë një perspektivë të mirë aplikimi.
CVD

Metoda CVD, e cila i përket depozitimit atomik, është një metodë e formimit të shtresës së ngurtë të depozitimit në sipërfaqen e matricës ngrohëse duke përdorur avull, hidrogjen dhe përbërës të tjerë kimikë të halidit metalik në temperaturë të lartë prej 950~1050℃. Procesi përfshin tre faza: avullimi i materialit, transporti në afërsi të matricës dhe formimi i mbivendosjes në matricë.
Ndër të gjitha llojet e metodave cvd, bombardimi i joneve me vakum dhe spërkatja me reaksion jonik magnetron janë më të përdorurat. Teknologjia cvd përdoret kryesisht për veshjen sipërfaqësore të veglave prerëse me karabit të çimentuar, e cila është e përshtatshme për përafërtimin me shpejtësi të lartë dhe gjysmëfinalizimin e prerjeve të mesme dhe të rënda.
Krahasuar me metodat e tjera të veshjes, metoda cvd jo vetëm që ka avantazhet e pajisjeve të thjeshta, procesit të pjekur, por gjithashtu ka avantazhet e mëposhtme:
Ka shumë lloje sedimentesh, të cilat mund të mbulohen me metale, aliazhe, karbide, nitride, boride, okside, nitride karboni, nitride oksigjeni, nitride hidro-karbon, etj. Me përshkueshmëri dhe uniformitet të lartë, mund të merren veshje me shumë shtresa me inde të ndryshme, dhe trashësia e veshjes është uniforme. Shkalla e depozitimit është e lartë dhe e lehtë për t'u kontrolluar. Veshja ka pastërti të lartë dhe kokrriza të imta dhe të dendura. Ngjitja e fortë mund të marrë një shtresë më të trashë. Kosto e ulët e procesit, e përshtatshme për prodhim masiv.
PVD

Metoda PVD është heqja e materialeve nga burimet e synuara me anë të formave fizike si avullimi ose spërkatja, dhe më pas depozitimi i këtyre joneve të avullit energjetik në sipërfaqen e nënshtresës ose pjesës për të formuar një shtresë filmi përmes hapësirës vakum ose gjysmë vakum. Reaksioni i avullit i atomeve të metaleve të avulluara ose të spërkatura çon në depozitimin e përbërjeve të kërkuara në sipërfaqen e mjetit. Veshja pvd mund të jetë e veshur me nitrid titani, nitrid karboni titani, komponime azotike të titanit të aluminit, si dhe me metale të ndryshme zjarrduruese të karbiteve dhe nitrideve.
Teknologjia PVD përdoret kryesisht në trajtimin e sipërfaqes së veglave integrale të karabit të çimentuar dhe veglave prej çeliku të veglave me shpejtësi të lartë. Është përdorur gjerësisht në trajtimin e veshjes së grimcave të karabit të çimentuar, prerësit të bluarjes, gërmuesit, rubinetit, mjetit në formë të veçantë, mjetit të saldimit etj.
MT-CVD

Veshja tcn me morfologji kristalore fibroze të dendur mund të merret nga depozitimi i avullit kimik me temperaturë mesatare (MT-CVD) në 700~900℃. Trashësia e veshjes mund të arrijë 8~10μm dhe mund të jetë a2o3、kallaj në shtresën sipërfaqësore me anë të teknologjisë cvd.
Tehu i veshjes MT-CVD është i përshtatshëm për shpejtësi të lartë, temperaturë të lartë, ngarkesë të madhe, kushte të prerjes së thatë, jeta e tij është rreth dy herë më e lartë se ajo e tehut të veshjes së zakonshme. Disavantazhi kryesor i metodës cvd është se temperatura e depozitimit është e lartë dhe pjekja dhe deformimi i mjetit do të ndodhë kur vegla çeliku e veglës me shpejtësi të lartë është e veshur. Pra, mjeti i depozituar duhet të shuhet.
Të drejtat e autorit © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Të gjitha të drejtat e rezervuara