Pisau Dapur Ruitai: Sumber Utama Anda untuk Set Pisau Dapur Tersuai dari China
Bahasa
Pisau Dapur Ruitai: Sumber Utama Anda untuk Set Pisau Dapur Tersuai dari China
Terdapat dua jenis kaedah salutan alat biasa: pemendapan wap kimia (cvd) dan pemendapan wap fizikal (pvd) pada masa ini. Dalam beberapa tahun kebelakangan ini, beberapa proses salutan baru telah muncul, yang mempunyai prospek aplikasi yang baik.
CVD
Kaedah CVD, yang tergolong dalam pemendapan atom, adalah kaedah membentuk lapisan pemendapan pepejal pada permukaan matriks pemanasan dengan menggunakan wap, hidrogen dan komponen kimia lain halida logam pada suhu tinggi 950~1050 ℃. Proses ini merangkumi tiga peringkat: pengewapan bahan, pengangkutan ke sekitar matriks dan pembentukan tindanan pada matriks.
Di antara semua jenis kaedah cvd, pengeboman ion vakum dan penyemburan tindak balas ion magnetron adalah yang paling banyak digunakan. teknologi cvd digunakan terutamanya untuk salutan permukaan alat pemotong karbida bersimen, yang sesuai untuk pengasaran berkelajuan tinggi dan separuh kemasan pemotongan sederhana dan berat.
Berbanding dengan kaedah salutan lain, kaedah cvd bukan sahaja mempunyai kelebihan peralatan mudah, proses matang, tetapi juga mempunyai kelebihan berikut:
Terdapat banyak jenis sedimen, yang boleh disalut dengan logam, aloi, karbida, nitrida, borida, oksida, karbon nitrida, oksigen nitrida, hidro-karbon nitrida, dll: Dengan kebolehtelapan dan keseragaman yang tinggi, salutan multilayer dengan tisu yang berbeza boleh diperolehi, dan ketebalan salutan adalah seragam. Kadar pemendapan adalah tinggi dan mudah dikawal. Salutan mempunyai ketulenan yang tinggi dan butiran halus dan padat. Lekatan yang kuat boleh mendapatkan salutan yang lebih tebal. Kos proses yang rendah, sesuai untuk pengeluaran besar-besaran.
PVD
Kaedah PVD adalah untuk mengeluarkan bahan daripada sumber sasaran melalui bentuk fizikal seperti penyejatan atau sputtering, dan kemudian mendepositkan ion wap bertenaga ini ke permukaan substrat atau bahagian untuk membentuk lapisan filem melalui ruang vakum atau separa vakum. Tindak balas wap atom logam yang tersejat atau terpercik membawa kepada pemendapan sebatian yang diperlukan pada permukaan alat. salutan pvd boleh disalut dengan titanium nitrida, titanium karbon nitrida, sebatian nitrogen titanium aluminium, serta pelbagai logam refraktori karbida dan nitrida.
Teknologi PVD digunakan terutamanya dalam rawatan permukaan alat karbida bersimen integral dan alat keluli alat berkelajuan tinggi. Ia telah digunakan secara meluas dalam rawatan salutan bit karbida bersimen, pemotong penggilingan, reamer, paip, alat berbentuk khas, alat kimpalan dan sebagainya.
MT-CVD
Salutan tcn dengan morfologi hablur berserabut padat boleh diperolehi dengan pemendapan wap kimia suhu sederhana (MT-CVD) pada 700~900 ℃. Ketebalan salutan boleh mencapai 8~10μm, dan boleh menjadi a2o3、tin pada lapisan permukaan oleh teknologi cvd.
Bilah salutan MT-CVD sesuai untuk kelajuan tinggi, suhu tinggi, beban besar, keadaan pemotongan kering, hayatnya kira-kira dua kali lebih tinggi daripada bilah salutan biasa. Kelemahan utama cvd kaedah ini ialah suhu pemendapan adalah tinggi, dan penyepuhlindapan dan ubah bentuk alat akan berlaku apabila alat keluli alat berkelajuan tinggi disalut. Jadi alat yang disimpan mesti dipadamkan.
Hak Cipta © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Hak Cipta Terpelihara
