రుయిటై కిచెన్ కత్తులు: చైనా నుండి కస్టమ్ కిచెన్ కత్తుల సెట్ కోసం మీ ప్రీమియర్ మూలం.
భాష
రుయిటై కిచెన్ కత్తులు: చైనా నుండి కస్టమ్ కిచెన్ కత్తుల సెట్ కోసం మీ ప్రీమియర్ మూలం.
రెండు రకాల సాధారణ సాధనం పూత పద్ధతులు ఉన్నాయి: ప్రస్తుతం రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (cvd) మరియు భౌతిక ఆవిరి నిక్షేపణ (pvd). ఇటీవలి సంవత్సరాలలో, కొన్ని కొత్త పూత ప్రక్రియలు కనిపించాయి, ఇది మంచి అప్లికేషన్ అవకాశాన్ని కలిగి ఉంది.
CVD
CVD పద్ధతి, పరమాణు నిక్షేపణకు చెందినది, 950~1050℃ అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద ఆవిరి, హైడ్రోజన్ మరియు మెటల్ హాలైడ్ యొక్క ఇతర రసాయన భాగాలను ఉపయోగించి తాపన మాతృక ఉపరితలంపై ఘన నిక్షేపణ పొరను ఏర్పరుస్తుంది. ప్రక్రియ మూడు దశలను కలిగి ఉంటుంది: పదార్థం యొక్క బాష్పీభవనం, మాతృక సమీపంలోకి రవాణా మరియు మాతృకపై అతివ్యాప్తి ఏర్పడటం.
అన్ని రకాల cvd పద్ధతులలో, వాక్యూమ్ అయాన్ బాంబర్‌మెంట్ మరియు మాగ్నెట్రాన్ అయాన్ రియాక్షన్ స్ప్రేయింగ్ ఎక్కువగా ఉపయోగించబడతాయి. cvd టెక్నాలజీ ప్రధానంగా సిమెంట్ కార్బైడ్ కట్టింగ్ టూల్స్ యొక్క ఉపరితల పూత కోసం ఉపయోగించబడుతుంది, ఇది మీడియం మరియు హెవీ కట్టింగ్ యొక్క హై స్పీడ్ రఫింగ్ మరియు సెమీ-ఫినిషింగ్ కోసం అనుకూలంగా ఉంటుంది.
ఇతర పూత పద్ధతులతో పోలిస్తే, cvd పద్ధతి సాధారణ పరికరాలు, పరిపక్వ ప్రక్రియ యొక్క ప్రయోజనాలను మాత్రమే కాకుండా, క్రింది ప్రయోజనాలను కూడా కలిగి ఉంది:
అనేక రకాల అవక్షేపాలు ఉన్నాయి, వీటిని లోహాలు, మిశ్రమాలు, కార్బైడ్లు, నైట్రైడ్లు, బోరైడ్లు, ఆక్సైడ్లు, కార్బన్ నైట్రైడ్లు, ఆక్సిజన్ నైట్రైడ్లు, హైడ్రో-కార్బన్ నైట్రైడ్లు మొదలైన వాటితో పూయవచ్చు: అధిక పారగమ్యత మరియు ఏకరూపతతో, వివిధ కణజాలాలతో బహుళస్థాయి పూతలను పొందవచ్చు మరియు పూత మందం ఏకరీతిగా ఉంటుంది. నిక్షేపణ రేటు ఎక్కువగా ఉంటుంది మరియు నియంత్రించడం సులభం. పూత అధిక స్వచ్ఛత మరియు చక్కటి మరియు దట్టమైన ధాన్యాలు కలిగి ఉంటుంది. బలమైన సంశ్లేషణ మందమైన పూత పొందవచ్చు. తక్కువ ప్రక్రియ ఖర్చు, సామూహిక ఉత్పత్తికి అనుకూలం.
PVD
PVD పద్ధతి ఏమిటంటే, బాష్పీభవనం లేదా స్పుట్టరింగ్ వంటి భౌతిక రూపాల ద్వారా లక్ష్య మూలాల నుండి పదార్థాలను తీసివేయడం, ఆపై ఈ శక్తివంతమైన ఆవిరి అయాన్‌లను సబ్‌స్ట్రేట్ లేదా పార్ట్ ఉపరితలంపై నిక్షిప్తం చేయడం ద్వారా వాక్యూమ్ లేదా సెమీ-వాక్యూమ్ స్పేస్ ద్వారా ఫిల్మ్ లేయర్‌ను ఏర్పరుస్తుంది. ఆవిరైన లేదా స్పుట్టర్డ్ మెటల్ అణువుల యొక్క ఆవిరి ప్రతిచర్య సాధనం ఉపరితలంపై అవసరమైన సమ్మేళనాల నిక్షేపణకు దారితీస్తుంది. pvd పూత టైటానియం నైట్రైడ్, టైటానియం కార్బన్ నైట్రైడ్, అల్యూమినియం టైటానియం నైట్రోజన్ సమ్మేళనాలు, అలాగే కార్బైడ్లు మరియు నైట్రైడ్‌ల యొక్క వివిధ వక్రీభవన లోహాలతో పూత పూయవచ్చు.
PVD సాంకేతికత ప్రధానంగా సమగ్ర సిమెంటెడ్ కార్బైడ్ టూల్స్ మరియు హై స్పీడ్ టూల్ స్టీల్ టూల్స్ యొక్క ఉపరితల చికిత్సలో ఉపయోగించబడుతుంది. సిమెంట్ కార్బైడ్ బిట్, మిల్లింగ్ కట్టర్, రీమర్, ట్యాప్, ప్రత్యేక ఆకారపు సాధనం, వెల్డింగ్ సాధనం మొదలైన వాటి పూత చికిత్సలో ఇది విస్తృతంగా ఉపయోగించబడింది.
MT-CVD
700~900℃ వద్ద మధ్యస్థ ఉష్ణోగ్రత రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (MT-CVD) ద్వారా దట్టమైన పీచు స్ఫటికాకార స్వరూపంతో tcn పూత పొందవచ్చు. పూత మందం 8~10μmకి చేరుకుంటుంది మరియు cvd టెక్నాలజీ ద్వారా ఉపరితల పొరపై a2o3、tin ఉంటుంది.
MT-CVD కోటింగ్ బ్లేడ్ అధిక వేగం, అధిక ఉష్ణోగ్రత, పెద్ద లోడ్, పొడి కట్టింగ్ పరిస్థితులకు అనుకూలంగా ఉంటుంది, దీని జీవితం సాధారణ పూత బ్లేడ్ కంటే రెండు రెట్లు ఎక్కువ. cvd పద్ధతి యొక్క ప్రధాన లోపం ఏమిటంటే నిక్షేపణ ఉష్ణోగ్రత ఎక్కువగా ఉంటుంది మరియు హై స్పీడ్ టూల్ స్టీల్ టూల్ పూత పూయబడినప్పుడు టూల్ ఎనియలింగ్ మరియు వైకల్యం సంభవిస్తుంది. కాబట్టి డిపాజిట్ చేసిన సాధనాన్ని చల్లార్చాలి.
కాపీరైట్ © 2026 యాంగ్జియాంగ్ యాంగ్‌డాంగ్ రుయిటై హార్డ్‌వేర్ ప్రొడక్ట్స్ కో., లిమిటెడ్ | అన్ని హక్కులూ ప్రత్యేకించుకోవడమైనది
