Blog
Pisau Dapur Ruitai: Sumber Utama anjeun pikeun Knives Dapur Adat Dipasang ti China
Bahasa
Pisau Dapur Ruitai: Sumber Utama anjeun pikeun Knives Dapur Adat Dipasang ti China
Aya dua jinis metode palapis alat umum: déposisi uap kimia (cvd) sareng déposisi uap fisik (pvd) ayeuna. Dina taun-taun ayeuna, sababaraha prosés palapis anyar parantos muncul, anu ngagaduhan prospek aplikasi anu saé.
CVD
Metoda CVD, nu kagolong kana déposisi atom, nyaéta métode ngabentuk lapisan déposisi padet dina beungeut matriks pemanasan ku ngagunakeun uap, hidrogén jeung komponén kimiawi séjén logam halida dina suhu luhur 950 ~ 1050 ℃. Prosésna ngawengku tilu tahapan: vaporization bahan, angkutan ka sabudeureun matrix sarta formasi overlay on matrix.
Diantara sagala jinis metode cvd, bombardment ion vakum sareng nyemprot réaksi ion magnetron anu paling sering dianggo. téhnologi cvd utamana dipaké pikeun palapis beungeut cemented carbide parabot motong, nu cocog pikeun roughing speed tinggi na semi-finishing of motong sedeng jeung beurat.
Dibandingkeun sareng metode palapis anu sanés, metode cvd henteu ngan ukur gaduh kaunggulan alat anu sederhana, prosés dewasa, tapi ogé ngagaduhan kaunggulan ieu:
Aya seueur jinis sédimén, anu tiasa dilapis ku logam, alloy, karbida, nitrida, borida, oksida, nitrida karbon, nitrida oksigén, nitrida hidro-karbon, jsb: Kalayan perméabilitas anu luhur sareng kaseragaman, palapis multilayer sareng jaringan anu béda tiasa didapet, sareng ketebalan palapis seragam. Laju déposisi luhur sareng gampang dikontrol. Lapisan ngagaduhan kamurnian anu luhur sareng séréal anu halus sareng padet. Adhesion kuat bisa ménta palapis kandel. Biaya prosés low, cocog pikeun produksi masal.
PVD
Metoda PVD nyaéta ngaleupaskeun bahan tina sumber udagan ku bentuk fisik sapertos évaporasi atanapi sputtering, teras neundeun ion uap energetik ieu kana substrat atanapi bagian permukaan pikeun ngabentuk lapisan pilem ngaliwatan rohangan vakum atanapi semi-vakum. Réaksi uap tina atom logam ngejat atawa sputtered ngabalukarkeun déposisi sanyawa diperlukeun dina beungeut alat. palapis pvd bisa coated kalawan titanium nitride, titanium karbon nitride, aluminium sanyawa nitrogén titanium, kitu ogé rupa-rupa logam refractory of carbide na nitrides.
Téknologi PVD utamana dipaké dina pengobatan permukaan integral cemented carbide parabot jeung speed tinggi parabot alat baja. Geus loba dipaké dina perlakuan palapis bit carbide cemented, panggilingan cutter, reamer, ketok, alat husus ngawangun, alat las jeung saterusna.
MT-CVD
Lapisan tcn kalayan morfologi kristalin serat padet tiasa didapet ku déposisi uap kimia suhu sedeng (MT-CVD) dina 700 ~ 900 ℃. Ketebalan palapis tiasa ngahontal 8 ~ 10μm, sareng tiasa janten a2o3, timah dina lapisan permukaan ku téknologi cvd.
MT-CVD palapis sabeulah téh cocog pikeun speed tinggi, suhu luhur, beban badag, kaayaan motong garing, hirupna nyaeta ngeunaan dua kali saluhur nu sabeulah palapis biasa. cvd aral utama métode nyaéta suhu déposisi luhur, sarta annealing alat jeung deformasi bakal lumangsung nalika alat baja speed tinggi coated. Jadi alat disimpen kudu quenched.
Hak Cipta © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Sadaya hak disimpen
