Ruitai гал тогооны хутга: Хятадаас захиалгат гал тогооны хутганы иж бүрдэл авах гол эх сурвалж
Хэл
Ruitai гал тогооны хутга: Хятадаас захиалгат гал тогооны хутганы иж бүрдэл авах гол эх сурвалж
Одоогийн байдлаар химийн уурын хуримтлал (cvd) ба физик уурын хуримтлал (pvd) гэсэн хоёр төрлийн нийтлэг хэрэгсэл бүрэх арга байдаг. Сүүлийн жилүүдэд бүрэх шинэ процессууд гарч ирсэн бөгөөд энэ нь хэрэглэх боломж сайтай.
ЗСӨ
Атомын хуримтлалд хамаарах CVD арга нь 950~1050℃ өндөр температурт металл галидын уур, устөрөгч болон бусад химийн бүрэлдэхүүн хэсгүүдийг ашиглан халаалтын матрицын гадаргуу дээр хатуу тунадас үүсгэх арга юм. Уг процесс нь гурван үе шатыг агуулна: материалыг ууршуулах, матрицын ойр орчимд хүргэх, матриц дээр давхарга үүсгэх.
Бүх төрлийн cvd аргуудын дотроос вакуум ионы бөмбөгдөлт, магнетрон ионы урвалаар шүрших аргыг хамгийн их ашигладаг. cvd технологийг цементжүүлсэн карбидын зүсэгч багажны гадаргууг бүрэхэд голчлон ашигладаг бөгөөд энэ нь дунд болон хүнд зүслэгийг өндөр хурдтай барзгар, хагас боловсруулалт хийхэд тохиромжтой.
Бусад бүрэх аргуудтай харьцуулахад cvd арга нь энгийн тоног төхөөрөмж, боловсорч гүйцсэн процессын давуу талтай төдийгүй дараахь давуу талуудтай.
Металл, хайлш, карбид, нитрид, борид, исэл, нүүрстөрөгчийн нитрид, хүчилтөрөгчийн нитрид, нүүрстөрөгчийн нитрид гэх мэт олон төрлийн хурдаснууд байдаг. Өндөр нэвчилт, жигд чанараар янз бүрийн эд эстэй олон давхаргат бүрээсийг авах боломжтой бөгөөд бүрэх зузаан нь жигд байна. Хуримтлуулах түвшин өндөр, хянахад хялбар. Бүрхүүл нь өндөр цэвэршилттэй, нарийн, нягт ширхэгтэй байдаг. Хүчтэй наалдац нь зузаан бүрээсийг авах боломжтой. Процессын зардал бага, бөөнөөр үйлдвэрлэхэд тохиромжтой.
PVD
PVD арга нь зорилтот эх үүсвэрээс материалыг ууршилт, цацах зэрэг физик хэлбэрээр зайлуулж, дараа нь эдгээр энергийн уурын ионуудыг субстрат эсвэл хэсэг гадаргуу дээр байрлуулж вакуум эсвэл хагас вакуум орон зайгаар хальсан давхарга үүсгэдэг. Ууршсан эсвэл цацагдсан металлын атомын уурын урвал нь багажны гадаргуу дээр шаардлагатай нэгдлүүдийг хуримтлуулахад хүргэдэг. pvd бүрээсийг титан нитрид, титан нүүрстөрөгчийн нитрид, хөнгөн цагаан титан азотын нэгдлүүд, түүнчлэн карбид ба нитридын янз бүрийн галд тэсвэртэй металлаар бүрэх боломжтой.
PVD технологи нь интеграл цементжүүлсэн карбидын багаж, өндөр хурдны багажны ган багажийн гадаргууг боловсруулахад голчлон ашиглагддаг. Энэ нь цементжүүлсэн карбидын хошуу, тээрэмдэх таслагч, хайч, цорго, тусгай хэлбэрийн багаж, гагнуурын хэрэгсэл гэх мэтийг бүрэх ажилд өргөн хэрэглэгддэг.
MT-CVD
Өтгөн фиброз талст хэлбэр бүхий tcn бүрээсийг 700~900℃ температурт химийн уурын дунд температурт (MT-CVD) хуримтлуулах замаар олж авч болно. Бүрээсний зузаан нь 8~10μm хүрэх ба cvd технологиор гадаргуугийн давхарга дээр a2o3, цагаан тугалга байж болно.
MT-CVD бүрэх ир нь өндөр хурдтай, өндөр температурт, их ачаалалтай, хуурай зүсэлт хийхэд тохиромжтой, ашиглалтын хугацаа нь энгийн бүрэх иртэй харьцуулахад хоёр дахин өндөр байдаг. cvd аргын гол сул тал нь тунадасжилтын температур өндөр байдаг бөгөөд өндөр хурдны ган багажийг бүрсэн үед багажны эдэлгээ, хэв гажилт үүсдэг. Тиймээс хадгалсан багажийг унтраах ёстой.
Зохиогчийн эрх © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Бүх эрх хуулиар хамгаалагдсан
