D'r binne op it stuit twa soarten mienskiplike metoaden foar arkcoating: gemyske dampdeposysje (cvd) en fysike dampdeposysje (pvd). Yn 'e ôfrûne jierren binne guon nije coatingprosessen ferskynd, dy't in goed oanfraachperspektyf hat.
CVD

CVD-metoade, dy't heart ta atoomdeposysje, is in metoade foar it foarmjen fan fêste ôfsettingslaach op it oerflak fan ferwaarmingsmatrix troch it brûken fan damp, wetterstof en oare gemyske komponinten fan metaalhalogenide by hege temperatueren fan 950 ~ 1050 ℃. It proses omfettet trije stadia: ferdamping fan materiaal, ferfier nei de omkriten fan matrix en formaasje fan overlay op matrix.
Under alle soarten cvd-metoaden binne fakuümionbombardemint en magnetronionreaksje spuiten it meast brûkt. cvd technology wurdt benammen brûkt foar it oerflak coating fan cemented carbid cutting ark, dat is geskikt foar hege snelheid roughing en semi-finishing fan medium en swier cutting.
Yn ferliking mei oare coatingmetoaden hat cvd-metoade net allinich de foardielen fan ienfâldige apparatuer, folwoeksen proses, mar hat ek de folgjende foardielen:
D'r binne in protte soarten sediminten, dy't kinne wurde bedekt mei metalen, alloys, carbides, nitrides, borides, oksides, koalstofnitriden, soerstofnitriden, koalstofnitriden, ensfh. Mei hege permeabiliteit en uniformiteit kinne meardere lagen mei ferskate weefsels wurde krigen, en de coatingdikte is unifoarm. De ôfsettingsrate is heech en maklik te kontrolearjen. De coating hat hege suverens en fyn en dichte korrels. Sterke adhesion kin dikkere coating krije. Lege proses kosten, geskikt foar massa produksje.
PVD

PVD-metoade is om materialen te ferwiderjen fan doelboarnen troch fysike foarmen lykas ferdamping of sputtering, en dan dizze enerzjike dampionen op 'e ûndergrûn of diel oerflak te deponearje om in filmlaach te foarmjen fia fakuüm as semy-fakuümromte. De dampreaksje fan ferdampte of sputtered metalen atomen liedt ta de ôfsetting fan de fereaske ferbiningen op it arkflak. pvd coating kin wurde bedekt mei titanium nitride, titanium koalstof nitride, aluminium titanium stikstof ferbiningen, likegoed as ferskate refractaire metalen fan carbides en nitrides.
PVD technology wurdt benammen brûkt yn de oerflak behanneling fan yntegraal cemented carbid ark en hege snelheid ark stielen ark. It is in soad brûkt yn coating behanneling fan cemented carbid bit, milling cutter, reamer, kraan, spesjale-shaped ark, welding ark ensafuorthinne.
MT-CVD

De tcn-coating mei dichte fibrous kristallijne morfology kin wurde krigen troch middelstemperatuer gemyske dampdeposysje (MT-CVD) by 700 ~ 900 ℃. De coating dikte kin berikke 8 ~ 10μm, en kin wêze a2o3, tin op it oerflak laach troch cvd technology.
MT-CVD coating blade is geskikt foar hege snelheid, hege temperatuer, grutte lading, droech cutting betingsten, syn libben is likernôch twa kear sa heech as dat fan gewoane coating blade. cvd wichtichste nadeel fan de metoade is dat de deposition temperatuer is heech, en it ark annealing en deformation sil foarkomme as de hege snelheid ark stielen ark wurdt coated. Sa moat it deponearre ark wurde quenched.
Auteursrjocht © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Alle rjochten foarbehâlden