ਇੱਥੇ ਦੋ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਆਮ ਟੂਲ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿਧੀਆਂ ਹਨ: ਵਰਤਮਾਨ ਵਿੱਚ ਰਸਾਇਣਕ ਭਾਫ਼ ਜਮ੍ਹਾਂ (ਸੀਵੀਡੀ) ਅਤੇ ਭੌਤਿਕ ਭਾਫ਼ ਜਮ੍ਹਾਂ (ਪੀਵੀਡੀ)। ਹਾਲ ਹੀ ਦੇ ਸਾਲਾਂ ਵਿੱਚ, ਕੁਝ ਨਵੀਆਂ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਪ੍ਰਗਟ ਹੋਈਆਂ ਹਨ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਦੀ ਚੰਗੀ ਸੰਭਾਵਨਾ ਹੈ।
ਸੀਵੀਡੀ

CVD ਵਿਧੀ, ਜੋ ਪਰਮਾਣੂ ਜਮ੍ਹਾ ਨਾਲ ਸਬੰਧਤ ਹੈ, 950~1050℃ ਦੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਭਾਫ਼, ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਅਤੇ ਮੈਟਲ ਹਾਲਾਈਡ ਦੇ ਹੋਰ ਰਸਾਇਣਕ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਹੀਟਿੰਗ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਠੋਸ ਜਮ੍ਹਾ ਪਰਤ ਬਣਾਉਣ ਦਾ ਇੱਕ ਤਰੀਕਾ ਹੈ। ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੱਚ ਤਿੰਨ ਪੜਾਅ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ: ਸਮੱਗਰੀ ਦਾ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ, ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੇ ਆਸ-ਪਾਸ ਆਵਾਜਾਈ ਅਤੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ 'ਤੇ ਓਵਰਲੇਅ ਦਾ ਗਠਨ।
ਹਰ ਕਿਸਮ ਦੇ ਸੀਵੀਡੀ ਤਰੀਕਿਆਂ ਵਿੱਚੋਂ, ਵੈਕਿਊਮ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰਡਮੈਂਟ ਅਤੇ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਆਇਨ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਛਿੜਕਾਅ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਧ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ। ਸੀਵੀਡੀ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸੀਮਿੰਟਡ ਕਾਰਬਾਈਡ ਕੱਟਣ ਵਾਲੇ ਸਾਧਨਾਂ ਦੀ ਸਤਹ ਕੋਟਿੰਗ ਲਈ ਵਰਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਉੱਚ ਰਫਤਾਰ ਰਫਿੰਗ ਅਤੇ ਮੱਧਮ ਅਤੇ ਭਾਰੀ ਕੱਟਣ ਦੇ ਅਰਧ-ਮੁਕੰਮਲ ਲਈ ਢੁਕਵੀਂ ਹੈ।
ਹੋਰ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿਧੀਆਂ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਸੀਵੀਡੀ ਵਿਧੀ ਵਿੱਚ ਨਾ ਸਿਰਫ਼ ਸਧਾਰਨ ਉਪਕਰਨਾਂ, ਪਰਿਪੱਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਫਾਇਦੇ ਹਨ, ਸਗੋਂ ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੇ ਫਾਇਦੇ ਵੀ ਹਨ:
ਕਈ ਕਿਸਮ ਦੇ ਤਲਛਟ ਹਨ, ਜਿਨ੍ਹਾਂ ਨੂੰ ਧਾਤਾਂ, ਮਿਸ਼ਰਤ, ਕਾਰਬਾਈਡ, ਨਾਈਟਰਾਈਡ, ਬੋਰਾਈਡ, ਆਕਸਾਈਡ, ਕਾਰਬਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ, ਆਕਸੀਜਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ, ਹਾਈਡਰੋ-ਕਾਰਬਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਆਦਿ ਨਾਲ ਲੇਪਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ: ਉੱਚ ਪਾਰਦਰਸ਼ੀਤਾ ਅਤੇ ਇਕਸਾਰਤਾ ਦੇ ਨਾਲ, ਵੱਖ-ਵੱਖ ਟਿਸ਼ੂਆਂ ਦੇ ਨਾਲ ਮਲਟੀਲੇਅਰ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਇਕਸਾਰ ਹੈ। ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੀ ਦਰ ਉੱਚੀ ਅਤੇ ਨਿਯੰਤਰਣ ਵਿੱਚ ਆਸਾਨ ਹੈ। ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਅਤੇ ਵਧੀਆ ਅਤੇ ਸੰਘਣੇ ਅਨਾਜ ਹੁੰਦੇ ਹਨ। ਮਜਬੂਤ ਅਸੰਭਵ ਮੋਟੀ ਪਰਤ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ. ਘੱਟ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੀ ਲਾਗਤ, ਪੁੰਜ ਉਤਪਾਦਨ ਲਈ ਉਚਿਤ.
ਪੀ.ਵੀ.ਡੀ

PVD ਵਿਧੀ ਹੈ ਟੀਚੇ ਦੇ ਸਰੋਤਾਂ ਤੋਂ ਪਦਾਰਥਾਂ ਨੂੰ ਭੌਤਿਕ ਰੂਪਾਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਭਾਫ਼ ਜਾਂ ਸਪਟਰਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਹਟਾਉਣਾ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਅਰਧ-ਵੈਕਿਊਮ ਸਪੇਸ ਰਾਹੀਂ ਇੱਕ ਫਿਲਮ ਪਰਤ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਇਹਨਾਂ ਊਰਜਾਵਾਨ ਭਾਫ਼ ਆਇਨਾਂ ਨੂੰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਜਾਂ ਹਿੱਸੇ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨਾ ਹੈ। ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਜਾਂ ਫਟਣ ਵਾਲੇ ਧਾਤ ਦੇ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਦੀ ਭਾਫ਼ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਟੂਲ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਲੋੜੀਂਦੇ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਹੋਣ ਵੱਲ ਲੈ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਪੀਵੀਡੀ ਕੋਟਿੰਗ ਨੂੰ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਨਾਈਟ੍ਰਾਈਡ, ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਕਾਰਬਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ, ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੇ ਨਾਲ-ਨਾਲ ਕਾਰਬਾਈਡ ਅਤੇ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਦੀਆਂ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਰਿਫ੍ਰੈਕਟਰੀ ਧਾਤਾਂ ਨਾਲ ਕੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਪੀਵੀਡੀ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇੰਟੈਗਰਲ ਸੀਮਿੰਟਡ ਕਾਰਬਾਈਡ ਟੂਲਸ ਅਤੇ ਹਾਈ ਸਪੀਡ ਟੂਲ ਸਟੀਲ ਟੂਲਸ ਦੇ ਸਤਹ ਇਲਾਜ ਵਿੱਚ ਵਰਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਇਹ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸੀਮਿੰਟਡ ਕਾਰਬਾਈਡ ਬਿੱਟ, ਮਿਲਿੰਗ ਕਟਰ, ਰੀਮਰ, ਟੈਪ, ਵਿਸ਼ੇਸ਼-ਆਕਾਰ ਦੇ ਸੰਦ, ਵੈਲਡਿੰਗ ਟੂਲ ਅਤੇ ਹੋਰਾਂ ਦੇ ਕੋਟਿੰਗ ਇਲਾਜ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ.
MT-CVD

ਸੰਘਣੀ ਰੇਸ਼ੇਦਾਰ ਕ੍ਰਿਸਟਲਿਨ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਵਾਲੀ tcn ਪਰਤ 700~900℃ 'ਤੇ ਮੱਧਮ ਤਾਪਮਾਨ ਦੇ ਰਸਾਇਣਕ ਭਾਫ਼ ਜਮ੍ਹਾ (MT-CVD) ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਪਰਤ ਦੀ ਮੋਟਾਈ 8~10μm ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਸੀਵੀਡੀ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੁਆਰਾ ਸਤਹ ਪਰਤ 'ਤੇ a2o3、tin ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ।
MT-CVD ਕੋਟਿੰਗ ਬਲੇਡ ਤੇਜ਼ ਰਫਤਾਰ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੱਡੇ ਲੋਡ, ਸੁੱਕੇ ਕੱਟਣ ਦੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ ਲਈ ਢੁਕਵਾਂ ਹੈ, ਇਸਦਾ ਜੀਵਨ ਆਮ ਕੋਟਿੰਗ ਬਲੇਡ ਨਾਲੋਂ ਲਗਭਗ ਦੁੱਗਣਾ ਹੈ। ਸੀਵੀਡੀ ਵਿਧੀ ਦੀ ਮੁੱਖ ਕਮਜ਼ੋਰੀ ਇਹ ਹੈ ਕਿ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦਾ ਤਾਪਮਾਨ ਉੱਚਾ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਟੂਲ ਐਨੀਲਿੰਗ ਅਤੇ ਵਿਗਾੜ ਉਦੋਂ ਵਾਪਰਦਾ ਹੈ ਜਦੋਂ ਹਾਈ ਸਪੀਡ ਟੂਲ ਸਟੀਲ ਟੂਲ ਕੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ. ਇਸ ਲਈ ਜਮ੍ਹਾ ਸੰਦ ਨੂੰ ਬੁਝਾਇਆ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ.
ਕਾਪੀਰਾਈਟ © 2026 ਯਾਂਗਜਿਆਂਗ ਯਾਂਗਡੋਂਗ ਰੁਈਤਾਈ ਹਾਰਡਵੇਅਰ ਪ੍ਰੋਡਕਟਸ ਕੰ., ਲਿਮਟਿਡ | ਸਾਰੇ ਹੱਕ ਰਾਖਵੇਂ ਹਨ