İki tür yaygın takım kaplama yöntemi vardır: şu anda kimyasal buhar biriktirme (cvd) ve fiziksel buhar biriktirme (pvd). Son yıllarda, iyi bir uygulama beklentisi olan bazı yeni kaplama işlemleri ortaya çıktı.
özgeçmiş

Atomik birikime ait olan CVD yöntemi, 950~1050℃ yüksek sıcaklıkta buhar, hidrojen ve metal halojenürün diğer kimyasal bileşenlerini kullanarak ısıtma matrisinin yüzeyinde katı biriktirme katmanı oluşturma yöntemidir. İşlem üç aşamadan oluşur: malzemenin buharlaştırılması, matrisin yakınına taşınması ve matris üzerinde bindirmenin oluşturulması.
Her türlü cvd yöntemi arasında vakum iyon bombardımanı ve magnetron iyon reaksiyon püskürtme en çok kullanılanlarıdır. cvd teknolojisi esas olarak yüksek hızlı kaba işleme ve orta ve ağır kesmenin yarı ince talaş işlemesi için uygun olan semente karbür kesici takımların yüzey kaplaması için kullanılır.
Diğer kaplama yöntemleri ile karşılaştırıldığında, cvd yöntemi sadece basit ekipman, olgun işlem avantajlarına sahip olmakla kalmaz, aynı zamanda aşağıdaki avantajlara da sahiptir:
Metaller, alaşımlar, karbürler, nitrürler, borürler, oksitler, karbon nitrürler, oksijen nitrürler, hidro-karbon nitrürler, vb. ile kaplanabilen pek çok tortu türü vardır: Yüksek geçirgenlik ve homojenlik ile farklı dokulara sahip çok katmanlı kaplamalar elde edilebilir ve kaplama kalınlığı tekdüzedir. Biriktirme oranı yüksektir ve kontrolü kolaydır. Kaplama yüksek saflığa ve ince ve yoğun tanelere sahiptir. Güçlü yapışma, daha kalın bir kaplama elde edebilir. Düşük proses maliyeti, seri üretime uygundur.
PVD

PVD yöntemi, buharlaştırma veya püskürtme gibi fiziksel formlarla malzemeleri hedef kaynaklardan uzaklaştırmak ve daha sonra bu enerjik buhar iyonlarını, vakum veya yarı vakumlu boşluk yoluyla bir film tabakası oluşturmak için altlık veya parça yüzeyi üzerine bırakmaktır. Buharlaştırılmış veya püskürtülmüş metal atomlarının buhar reaksiyonu, gerekli bileşiklerin alet yüzeyinde birikmesine yol açar. pvd kaplama titanyum nitrür, titanyum karbon nitrür, alüminyum titanyum azot bileşikleri ve ayrıca çeşitli refrakter karbür ve nitrür metalleri ile kaplanabilir.
PVD teknolojisi esas olarak entegre semente karbür takımların ve yüksek hızlı takım çeliği takımlarının yüzey işlemlerinde kullanılır. Çimentolu karbür bit, freze, rayba, kılavuz, özel şekilli alet, kaynak aleti vb. kaplama işlemlerinde yaygın olarak kullanılmaktadır.
MT-CVD

Yoğun lifli kristal morfolojiye sahip tcn kaplama, 700~900℃'de orta sıcaklıkta kimyasal buhar biriktirme (MT-CVD) ile elde edilebilir. Kaplama kalınlığı 8 ~ 10μm'ye ulaşabilir ve cvd teknolojisi ile yüzey tabakasında a2o3 、 kalay olabilir.
MT-CVD kaplama bıçağı, yüksek hız, yüksek sıcaklık, büyük yük, kuru kesme koşulları için uygundur, ömrü sıradan kaplama bıçağınınkinin yaklaşık iki katıdır. Yöntemin ana dezavantajı, biriktirme sıcaklığının yüksek olması ve yüksek hızlı takım çeliği takım kaplandığında takım tavlaması ve deformasyon meydana gelmesidir. Bu nedenle, yatırılan alet söndürülmelidir.
Telif Hakkı © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Donanım Ürünleri A.Ş. | Tüm Hakları Saklıdır