Baliabidea
Ruitai Sukaldeko Labana: Txinako Sukaldeko Labana Pertsonalizatuen Iturburu Nagusia
Hizkuntza
Ruitai Sukaldeko Labana: Txinako Sukaldeko Labana Pertsonalizatuen Iturburu Nagusia
Bi motatako tresnak estaltzeko metodo arruntak daude: lurrun-deposizio kimikoa (cvd) eta lurrun-jadapen fisikoa (pvd). Azken urteotan, estaldura-prozesu berri batzuk agertu dira, eta horrek aplikazio aukera ona du.
CVD
CVD metodoa, deposizio atomikoari dagokiona, berogailu-matrizearen gainazalean deposizio solidoaren geruza osatzeko metodo bat da, lurruna, hidrogenoa eta halogenuro metalikoaren beste osagai kimikoak erabiliz, 950 ~ 1050 ℃ tenperatura altuan. Prozesuak hiru fase ditu: materialaren lurruntzea, matrizearen inguruetara garraiatzea eta matrizearen gainjartzea.
Mota guztietako cvd metodoen artean, hutseko ioien bonbardaketa eta magnetron ioi erreakzioaren ihinztadura dira erabilienak. cvd teknologia batez ere karburo zementudun ebaketa-tresnen gainazaleko estaldurarako erabiltzen da, hau da, abiadura handiko ebaketa ertaineko eta astunetako erdi-akaberarako egokia dena.
Beste estaldura-metodo batzuekin alderatuta, cvd metodoak ekipamendu sinplearen abantailak ditu, prozesu heldua izateaz gain, abantaila hauek ditu:
Mota askotako sedimentuak daude, metalez, aleazioz, karburoz, nitruroz, boruroz, oxidoz, karbono nitruroz, oxigeno nitruroz, hidrokarbono nitruroz eta abarrez estali daitezkeenak: Iragazkortasun eta uniformetasun handiarekin, ehun ezberdinetako geruza anitzeko estaldurak lor daitezke eta estalduraren lodiera uniformea da. Deposizio-tasa altua eta kontrolatzeko erraza da. Estaldurak purutasun handiko eta ale fin eta trinkoak ditu. Atxikimendu sendoak estaldura lodiagoa lor dezake. Prozesu kostu baxua, ekoizpen masiborako egokia.
PVD
PVD metodoa xede-iturrietatik materialak kentzea da, hala nola lurrunketa edo sputtering bezalako forma fisikoen bidez, eta, ondoren, lurrun ioi energetiko hauek substratuan edo zatiaren gainazalean uztea film-geruza bat osatzeko hutsean edo erdi-hutsean espazioan. Lurrundutako edo sputted metal atomoen lurrun-erreakzioak beharrezko konposatuak erremintaren gainazalean jalkitzea dakar. pvd estaldura titanio nitruroa, titanio karbono nitruroa, aluminio titanio nitrogeno konposatuekin eta karburoen eta nitruroen hainbat metal erregogorrekin estali daiteke.
PVD teknologia, batez ere, zementuzko karburozko erreminten eta abiadura handiko erreminten altzairuzko tresnen gainazaleko tratamenduan erabiltzen da. Oso erabilia izan da karburo zementudun bitaren estaldura-tratamenduan, fresatzeko fresa, txorrota, forma bereziko tresna, soldadura tresna eta abar.
MT-CVD
Zuntz morfologia kristalino trinkoko tcn estaldura tenperatura ertaineko lurrun-deposizio kimikoaren bidez lor daiteke (MT-CVD) 700 ~ 900 ℃-tan. Estalduraren lodiera 8 ~ 10μm irits daiteke eta a2o3、tin izan daiteke gainazaleko geruzan cvd teknologiaren bidez.
MT-CVD estaldura-xafla abiadura handiko, tenperatura altuetarako, karga handietarako, ebaketa-baldintzetarako egokia da, bere bizitza estaldura-xafla arruntarena baino bi aldiz handiagoa da. cvd metodoaren eragozpen nagusia deposizio-tenperatura altua dela da, eta erreminta erretiroa eta deformazioa abiadura handiko erreminta altzairuzko tresna estalita dagoenean gertatuko dira. Beraz, gordailatutako tresna itzali egin behar da.
Copyright © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Eskubide guztiak erreserbatuta
