બે પ્રકારની સામાન્ય ટૂલ કોટિંગ પદ્ધતિઓ છે: રાસાયણિક વરાળ ડિપોઝિશન (સીવીડી) અને ભૌતિક વરાળ ડિપોઝિશન (પીવીડી) હાલમાં. તાજેતરના વર્ષોમાં, કેટલીક નવી કોટિંગ પ્રક્રિયાઓ દેખાઈ છે, જેમાં સારી એપ્લિકેશનની સંભાવના છે.
સીવીડી

CVD પદ્ધતિ, જે પરમાણુ ડિપોઝિશનથી સંબંધિત છે, તે 950~1050℃ ના ઊંચા તાપમાને વરાળ, હાઇડ્રોજન અને મેટલ હલાઇડના અન્ય રાસાયણિક ઘટકોનો ઉપયોગ કરીને હીટિંગ મેટ્રિક્સની સપાટી પર ઘન ડિપોઝિશન લેયર બનાવવાની પદ્ધતિ છે. પ્રક્રિયામાં ત્રણ તબક્કાઓનો સમાવેશ થાય છે: સામગ્રીનું બાષ્પીભવન, મેટ્રિક્સની નજીકમાં પરિવહન અને મેટ્રિક્સ પર ઓવરલેની રચના.
તમામ પ્રકારની સીવીડી પદ્ધતિઓમાં, વેક્યૂમ આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટ અને મેગ્નેટ્રોન આયન રિએક્શન સ્પ્રેનો સૌથી વધુ ઉપયોગ થાય છે. સીવીડી ટેક્નોલોજીનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે સિમેન્ટેડ કાર્બાઇડ કટીંગ ટૂલ્સની સપાટીના કોટિંગ માટે થાય છે, જે મધ્યમ અને ભારે કટીંગના હાઇ સ્પીડ રફિંગ અને સેમી-ફિનિશિંગ માટે યોગ્ય છે.
અન્ય કોટિંગ પદ્ધતિઓની તુલનામાં, સીવીડી પદ્ધતિમાં માત્ર સરળ સાધનો, પરિપક્વ પ્રક્રિયાના ફાયદા જ નથી, પરંતુ નીચેના ફાયદા પણ છે:
ત્યાં ઘણા પ્રકારના કાંપ છે, જેને ધાતુઓ, એલોય, કાર્બાઇડ, નાઇટ્રાઇડ્સ, બોરાઇડ્સ, ઓક્સાઇડ્સ, કાર્બન નાઇટ્રાઇડ્સ, ઓક્સિજન નાઇટ્રાઇડ્સ, હાઇડ્રો-કાર્બન નાઇટ્રાઇડ્સ વગેરે સાથે કોટેડ કરી શકાય છે: ઉચ્ચ અભેદ્યતા અને એકરૂપતા સાથે, વિવિધ પેશીઓ સાથે મલ્ટિલેયર કોટિંગ્સ મેળવી શકાય છે, અને કોટિંગની જાડાઈ સમાન છે. જુબાની દર ઊંચો અને નિયંત્રિત કરવા માટે સરળ છે. કોટિંગમાં ઉચ્ચ શુદ્ધતા અને દંડ અને ગાઢ અનાજ છે. મજબૂત સંલગ્નતા ગાઢ કોટિંગ મેળવી શકે છે. ઓછી પ્રક્રિયા ખર્ચ, સામૂહિક ઉત્પાદન માટે યોગ્ય.
પીવીડી

PVD પદ્ધતિ એ બાષ્પીભવન અથવા સ્પટરિંગ જેવા ભૌતિક સ્વરૂપો દ્વારા લક્ષ્ય સ્ત્રોતોમાંથી સામગ્રીને દૂર કરવાની છે, અને પછી વેક્યૂમ અથવા અર્ધ-વેક્યુમ સ્પેસ દ્વારા ફિલ્મ સ્તર બનાવવા માટે આ ઊર્જાસભર બાષ્પ આયનોને સબસ્ટ્રેટ અથવા ભાગની સપાટી પર જમા કરવામાં આવે છે. બાષ્પીભવન અથવા સ્પુટર્ડ ધાતુના અણુઓની વરાળની પ્રતિક્રિયા સાધનની સપાટી પર જરૂરી સંયોજનોના જુબાની તરફ દોરી જાય છે. પીવીડી કોટિંગને ટાઇટેનિયમ નાઇટ્રાઇડ, ટાઇટેનિયમ કાર્બન નાઇટ્રાઇડ, એલ્યુમિનિયમ ટાઇટેનિયમ નાઇટ્રોજન સંયોજનો, તેમજ કાર્બાઇડ અને નાઇટ્રાઇડ્સની વિવિધ પ્રત્યાવર્તન ધાતુઓ સાથે કોટ કરી શકાય છે.
પીવીડી ટેકનોલોજીનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે ઇન્ટિગ્રલ સિમેન્ટેડ કાર્બાઇડ ટૂલ્સ અને હાઇ સ્પીડ ટૂલ સ્ટીલ ટૂલ્સની સપાટીની સારવારમાં થાય છે. સિમેન્ટેડ કાર્બાઈડ બીટ, મિલિંગ કટર, રીમર, ટેપ, ખાસ આકારનું ટૂલ, વેલ્ડીંગ ટૂલ વગેરેની કોટિંગ ટ્રીટમેન્ટમાં તેનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ થાય છે.
MT-CVD

ગાઢ તંતુમય સ્ફટિકીય મોર્ફોલોજી સાથેનું tcn કોટિંગ 700~900℃ પર મધ્યમ તાપમાનના રાસાયણિક વરાળ ડિપોઝિશન (MT-CVD) દ્વારા મેળવી શકાય છે. કોટિંગની જાડાઈ 8~10μm સુધી પહોંચી શકે છે અને cvd ટેકનોલોજી દ્વારા સપાટીના સ્તર પર a2o3、tin હોઈ શકે છે.
MT-CVD કોટિંગ બ્લેડ હાઇ સ્પીડ, ઉચ્ચ તાપમાન, મોટા ભાર, ડ્રાય કટીંગની સ્થિતિ માટે યોગ્ય છે, તેનું જીવન સામાન્ય કોટિંગ બ્લેડ કરતા લગભગ બમણું છે. cvd પદ્ધતિની મુખ્ય ખામી એ છે કે ડિપોઝિશન તાપમાન ઊંચું છે, અને જ્યારે હાઇ સ્પીડ ટૂલ સ્ટીલ ટૂલ કોટેડ હોય ત્યારે ટૂલ એનિલિંગ અને વિરૂપતા થાય છે. તેથી જમા કરેલ સાધનને શમવું જ જોઈએ.
કૉપિરાઇટ © 2026 યાંગજિયાંગ યાંગડોંગ રુઇતાઇ હાર્ડવેર પ્રોડક્ટ્સ કંપની લિમિટેડ | સર્વાધિકાર સુરક્ષિત