လက်ရှိတွင် ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (cvd) နှင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့ထုတ်ခြင်း (pvd) ဟူ၍ နှစ်မျိုးနှစ်စားရှိသည်။ မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း၊ အချို့သော coating process များသည် ကောင်းမွန်သော အသုံးချမှု အလားအလာများ ရှိနေသည်။
CVD

CVD နည်းလမ်းသည် မြင့်မားသောအပူချိန် 950 ~ 1050 ℃ တွင် အငွေ့၊ ဟိုက်ဒရိုဂျင်နှင့် metal halide ၏ အပူချိန် 950 ~ 1050 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်တွင် အပူမက်ထရစ်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အစိုင်အခဲ deposition အလွှာကို ဖွဲ့စည်းသည့်နည်းလမ်းဖြစ်သည်။ လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အဆင့်သုံးဆင့်ပါဝင်သည်- ပစ္စည်းကို အငွေ့ပြန်ခြင်း၊ မက်ထရစ်၏ အနီးတစ်ဝိုက်သို့ ပို့ဆောင်ခြင်းနှင့် မက်ထရစ်အပေါ် ထပ်ဆင့်ဖွဲ့စည်းခြင်းတို့ ပါဝင်ပါသည်။
cvd နည်းလမ်း အမျိုးမျိုးတို့တွင် Vacuum ion bombardment နှင့် magnetron ion reaction spraying တို့ကို အများဆုံး အသုံးပြုကြသည်။ cvd နည်းပညာကို အလတ်စားနှင့် လေးလံသောဖြတ်တောက်ခြင်းအတွက် အရှိန်ပြင်းပြင်း ကြမ်းတမ်းခြင်းနှင့် အလယ်အလတ်နှင့် လေးလံသောဖြတ်တောက်ခြင်းအတွက် သင့်လျော်သော ဘိလပ်မြေကာဗိုက်ဖြတ်တောက်ခြင်းကိရိယာများ၏ မျက်နှာပြင်အပေါ်ယံအလွှာအတွက် အဓိကအသုံးပြုသည်။
အခြား coating method များနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက cvd နည်းလမ်းသည် ရိုးရှင်းသော စက်ကိရိယာများ၏ အားသာချက်များသာမက ရင့်ကျက်သော လုပ်ငန်းစဉ်တွင်ပါ ရှိသော်လည်း အောက်ပါ အားသာချက်များလည်း ရှိပါသည်။
သတ္တုများ၊ သတ္တုစပ်များ၊ ကာဗိုက်များ၊ နိုက်ထရိတ်များ၊ ဘိုရိုက်များ၊ အောက်ဆိုဒ်များ၊ ကာဗွန်နိုက်ထရိတ်များ၊ အောက်ဆီဂျင်နိုက်ထရိတ်များ၊ ဟိုက်ဒရိုကာဗွန်နိုက်ထရိတ်များ၊ မြင့်မားသော permeability နှင့် တူညီမှုနှင့်အတူ၊ မတူညီသော တစ်ရှူးများဖြင့် အလွှာပေါင်းများစွာကို ရရှိနိုင်ပြီး အပေါ်ယံအထူသည် တူညီသည်။ အပ်နှံမှုနှုန်းသည် မြင့်မားပြီး ထိန်းချုပ်ရလွယ်ကူသည်။ အပေါ်ယံပိုင်းသည် မြင့်မားသော သန့်စင်မှုနှင့် ကောင်းမွန်ပြီး သိပ်သည်းသော အစေ့အဆန်များ ပါဝင်သည်။ ခိုင်ခံ့သော adhesion သည် ပိုထူသော coating ကိုရရှိနိုင်ပါသည်။ ကုန်ကျစရိတ်သက်သာပြီး အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုအတွက် သင့်လျော်သည်။
PVD

PVD နည်းလမ်းသည် အငွေ့ပျံခြင်း သို့မဟုတ် ရေပက်ခြင်းကဲ့သို့သော ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာပုံစံများဖြင့် ပစ်မှတ်ရင်းမြစ်များမှ ပစ္စည်းများကို ဖယ်ရှားပြီး ယင်းအား စွမ်းအင်ရှိသော အခိုးအငွေ့အိုင်းယွန်းများကို အောက်စထရိ သို့မဟုတ် မျက်နှာပြင်တစ်စိတ်တစ်ပိုင်းပေါ်၌ ဖလင်အလွှာတစ်ခုအဖြစ် ဖုန်စုပ်စက် သို့မဟုတ် ဖုန်စုပ်သည့်နေရာမှတဆင့် ဖလင်အလွှာအဖြစ် ဖွဲ့စည်းရန်ဖြစ်သည်။ အငွေ့ပျံသွားသော သို့မဟုတ် ကွဲထွက်သွားသော သတ္တုအက်တမ်များ၏ အငွေ့တုံ့ပြန်မှုသည် ကိရိယာမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ လိုအပ်သော ဒြပ်ပေါင်းများ ပြိုလဲသွားစေသည်။ pvd အပေါ်ယံပိုင်းကို တိုက်တေနီယမ်နိုက်ထရိတ်၊ တိုက်တေနီယမ်ကာဗွန်နိုက်ထရိတ်၊ အလူမီနီယမ် တိုက်တေနီယမ်နိုက်ထရိုဂျင်ဒြပ်ပေါင်းများအပြင် ကာဗိုဒ်နှင့် နိုက်ထရိုက်၏ သတ္တုဓာတ်အမျိုးမျိုးဖြင့် ဖုံးအုပ်နိုင်သည်။
PVD နည်းပညာကို အဓိကအားဖြင့် ပေါင်းစပ် ဘိလပ်မြေ ကာဗိုက် ကိရိယာများနှင့် မြန်နှုန်းမြင့် ကိရိယာ သံမဏိ ကိရိယာများ ၏ မျက်နှာပြင် ကုသမှုတွင် အဓိက အသုံးပြုသည်။ ၎င်းကို ဘိလပ်မြေကာဗိုက်ဘစ်၊ ကြိတ်ဖြတ်စက်၊ ကောက်စက်၊ ပုတ်၊ အထူးပုံသဏ္ဍာန်တူကိရိယာ၊ ဂဟေတူးကိရိယာ စသည်ဖြင့် အပေါ်ယံအလွှာကို တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုခဲ့သည်။
MT-CVD

သိပ်သည်းသော fibrous crystalline morphology ဖြင့် tcn အပေါ်ယံပိုင်းကို 700 ~ 900 ℃ တွင် အလယ်အလတ်အပူချိန် ဓာတုအငွေ့ပျံခြင်း (MT-CVD) ဖြင့် ရရှိနိုင်ပါသည်။ အပေါ်ယံအထူသည် 8 ~ 10μmအထိရောက်ရှိနိုင်ပြီး cvd နည်းပညာဖြင့် မျက်နှာပြင်အလွှာတွင် a2o3、tin ဖြစ်နိုင်သည်။
MT-CVD coating blade သည် မြန်နှုန်းမြင့်၊ မြင့်မားသောအပူချိန်၊ ကြီးမားသောဝန်၊ ခြောက်သွေ့သောဖြတ်တောက်မှုအခြေအနေများအတွက် သင့်လျော်ပြီး ၎င်း၏သက်တမ်းသည် သာမန်အလွှာအုပ်ဓါးထက် နှစ်ဆခန့်မြင့်မားသည်။ cvd နည်းလမ်း၏ အဓိကအားနည်းချက်မှာ deposition temperature မြင့်မားပြီး မြန်နှုန်းမြင့် tool steel tool ကို coated သောအခါ tool annealing နှင့် deformation ဖြစ်ပေါ်လာမည်ဖြစ်သည်။ ဒါကြောင့် အပ်ထားတဲ့ tool ကို မီးငြိမ်းရပါမယ်။
မူပိုင်ခွင့် © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | မူပိုင်ခွင့်ကိုလက်ဝယ်ထားသည်