Υπάρχουν δύο είδη κοινών μεθόδων επίστρωσης εργαλείων: η χημική εναπόθεση ατμού (cvd) και η φυσική εναπόθεση ατμού (pvd) επί του παρόντος. Τα τελευταία χρόνια έχουν εμφανιστεί κάποιες νέες διεργασίες επίστρωσης, οι οποίες έχουν καλή προοπτική εφαρμογής.
CVD

Η μέθοδος CVD, η οποία ανήκει στην ατομική εναπόθεση, είναι μια μέθοδος σχηματισμού στερεού στρώματος εναπόθεσης στην επιφάνεια της μήτρας θέρμανσης χρησιμοποιώντας ατμό, υδρογόνο και άλλα χημικά συστατικά αλογονιδίου μετάλλου σε υψηλή θερμοκρασία 950~1050℃. Η διαδικασία περιλαμβάνει τρία στάδια: εξάτμιση υλικού, μεταφορά στην περιοχή της μήτρας και σχηματισμός επικάλυψης στη μήτρα.
Μεταξύ όλων των ειδών μεθόδων cvd, ο βομβαρδισμός ιόντων κενού και ο ψεκασμός με αντίδραση ιόντων μαγνητρόν είναι οι πιο χρησιμοποιούμενες. Η τεχνολογία cvd χρησιμοποιείται κυρίως για την επιφανειακή επίστρωση εργαλείων κοπής με τσιμέντο καρβίδιο, η οποία είναι κατάλληλη για τραχύτητα υψηλής ταχύτητας και ημι-τελική επεξεργασία μεσαίας και βαριάς κοπής.
Σε σύγκριση με άλλες μεθόδους επίστρωσης, η μέθοδος cvd όχι μόνο έχει τα πλεονεκτήματα του απλού εξοπλισμού, της ώριμης διαδικασίας, αλλά έχει και τα ακόλουθα πλεονεκτήματα:
Υπάρχουν πολλά είδη ιζημάτων, τα οποία μπορούν να επικαλυφθούν με μέταλλα, κράματα, καρβίδια, νιτρίδια, βορίδια, οξείδια, νιτρίδια άνθρακα, νιτρίδια οξυγόνου, νιτρίδια υδρογονάνθρακα κ.λπ. Με υψηλή διαπερατότητα και ομοιομορφία, μπορούν να ληφθούν πολυστρωματικές επικαλύψεις με διαφορετικούς ιστούς και το πάχος της επίστρωσης είναι ομοιόμορφο. Το ποσοστό εναπόθεσης είναι υψηλό και εύκολο να ελεγχθεί. Η επίστρωση έχει υψηλή καθαρότητα και λεπτούς και πυκνούς κόκκους. Η ισχυρή πρόσφυση μπορεί να αποκτήσει παχύτερη επίστρωση. Χαμηλό κόστος διαδικασίας, κατάλληλο για μαζική παραγωγή.
PVD

Η μέθοδος PVD είναι η αφαίρεση υλικών από τις πηγές-στόχους με φυσικές μορφές όπως η εξάτμιση ή η εκτόξευση και στη συνέχεια η εναπόθεση αυτών των ενεργητικών ιόντων ατμών στο υπόστρωμα ή μέρος της επιφάνειας για να σχηματιστεί ένα στρώμα μεμβράνης μέσω του χώρου κενού ή ημικενού. Η αντίδραση ατμών εξατμισμένων ή διασκορπισμένων ατόμων μετάλλου οδηγεί στην εναπόθεση των απαιτούμενων ενώσεων στην επιφάνεια του εργαλείου. Η επίστρωση pvd μπορεί να επικαλυφθεί με νιτρίδιο τιτανίου, νιτρίδιο άνθρακα τιτανίου, ενώσεις αζώτου αλουμινίου τιτανίου, καθώς και διάφορα πυρίμαχα μέταλλα καρβιδίων και νιτριδίων.
Η τεχνολογία PVD χρησιμοποιείται κυρίως στην επιφανειακή επεξεργασία εργαλείων ενσωματωμένου καρβιδίου με τσιμέντο και εργαλείων από χάλυβα υψηλής ταχύτητας. Έχει χρησιμοποιηθεί ευρέως στην επεξεργασία επίστρωσης τσιμεντοειδούς κομματιού καρβιδίου, φρεζαρίσματος, φρεζαρίσματος, βρύσης, εργαλείου ειδικού σχήματος, εργαλείου συγκόλλησης και ούτω καθεξής.
MT-CVD

Η επίστρωση tcn με πυκνή ινώδη κρυσταλλική μορφολογία μπορεί να ληφθεί με εναπόθεση χημικών ατμών μέσης θερμοκρασίας (MT-CVD) στους 700~900℃. Το πάχος της επίστρωσης μπορεί να φτάσει τα 8~10μm και μπορεί να είναι a2o3、κασσίτερο στο επιφανειακό στρώμα με τεχνολογία cvd.
Η λεπίδα επίστρωσης MT-CVD είναι κατάλληλη για συνθήκες υψηλής ταχύτητας, υψηλής θερμοκρασίας, μεγάλου φορτίου, ξηρής κοπής, η διάρκεια ζωής της είναι περίπου διπλάσια από αυτή της συνηθισμένης λεπίδας επίστρωσης. cvd κύριο μειονέκτημα της μεθόδου είναι ότι η θερμοκρασία εναπόθεσης είναι υψηλή και η ανόπτηση και η παραμόρφωση του εργαλείου θα προκύψουν όταν το εργαλείο υψηλής ταχύτητας από χάλυβα είναι επικαλυμμένο. Άρα το αποτιθέμενο εργαλείο πρέπει να σβήσει.
Πνευματικά δικαιώματα © 2026 Yangjiang Yangdong Ruitai Hardware Products Co., Ltd. | Με επιφύλαξη παντός δικαιώματος