संसाधन
रुईताई किचन नाइव्ह्ज: चीनमधील कस्टम किचन नाइव्ह्ज सेटसाठी तुमचा प्रमुख स्रोत
इंग्रजी
रुईताई किचन नाइव्ह्ज: चीनमधील कस्टम किचन नाइव्ह्ज सेटसाठी तुमचा प्रमुख स्रोत
दोन प्रकारच्या सामान्य साधन कोटिंग पद्धती आहेत: सध्या रासायनिक वाष्प जमा करणे (cvd) आणि भौतिक वाष्प जमा करणे (pvd). अलिकडच्या वर्षांत, काही नवीन कोटिंग प्रक्रिया दिसू लागल्या आहेत, ज्यात अनुप्रयोगाची चांगली शक्यता आहे.
CVD
CVD पद्धत, जी अणू निक्षेपाशी संबंधित आहे, ही 950~1050℃ उच्च तापमानात वाफ, हायड्रोजन आणि मेटल हॅलाइडचे इतर रासायनिक घटक वापरून हीटिंग मॅट्रिक्सच्या पृष्ठभागावर घन निक्षेप स्तर तयार करण्याची पद्धत आहे. प्रक्रियेमध्ये तीन टप्पे समाविष्ट आहेत: सामग्रीचे बाष्पीभवन, मॅट्रिक्सच्या परिसरात वाहतूक आणि मॅट्रिक्सवर आच्छादन तयार करणे.
सर्व प्रकारच्या सीव्हीडी पद्धतींपैकी, व्हॅक्यूम आयन बॉम्बर्डमेंट आणि मॅग्नेट्रॉन आयन प्रतिक्रिया फवारणी सर्वात जास्त वापरली जाते. सीव्हीडी तंत्रज्ञानाचा वापर मुख्यतः सिमेंटेड कार्बाइड कटिंग टूल्सच्या पृष्ठभागाच्या कोटिंगसाठी केला जातो, जो मध्यम आणि जड कटिंगच्या हाय स्पीड रफिंग आणि सेमी-फिनिशिंगसाठी योग्य आहे.
इतर कोटिंग पद्धतींच्या तुलनेत, सीव्हीडी पद्धतीमध्ये केवळ साधे उपकरणे, परिपक्व प्रक्रियेचे फायदेच नाहीत तर खालील फायदे देखील आहेत:
अनेक प्रकारचे गाळ आहेत, ज्यांना धातू, मिश्रधातू, कार्बाइड्स, नायट्राइड्स, बोराइड्स, ऑक्साईड्स, कार्बन नायट्राइड्स, ऑक्सिजन नायट्राइड्स, हायड्रो-कार्बन नायट्राइड्स इ. उच्च पारगम्यता आणि एकसमानतेसह, विविध ऊतकांसह बहुस्तरीय कोटिंग्स मिळवता येतात आणि कोटिंगची जाडी एकसमान असते. जमा दर उच्च आणि नियंत्रित करणे सोपे आहे. कोटिंगमध्ये उच्च शुद्धता आणि बारीक आणि दाट धान्य आहे. मजबूत आसंजन दाट कोटिंग मिळवू शकते. कमी प्रक्रिया खर्च, मोठ्या प्रमाणात उत्पादनासाठी योग्य.
पीव्हीडी
बाष्पीभवन किंवा थुंकणे यांसारख्या भौतिक स्वरूपाद्वारे लक्ष्य स्त्रोतांमधून सामग्री काढून टाकणे आणि नंतर हे ऊर्जावान वाष्प आयन सब्सट्रेट किंवा भाग पृष्ठभागावर जमा करणे म्हणजे व्हॅक्यूम किंवा सेमी-व्हॅक्यूम स्पेसद्वारे फिल्म लेयर तयार करणे. बाष्पीभवन किंवा थुंकलेल्या धातूच्या अणूंच्या वाष्प प्रतिक्रियामुळे उपकरणाच्या पृष्ठभागावर आवश्यक संयुगे जमा होतात. पीव्हीडी कोटिंग टायटॅनियम नायट्राइड, टायटॅनियम कार्बन नायट्राइड, अॅल्युमिनियम टायटॅनियम नायट्रोजन संयुगे, तसेच कार्बाइड्स आणि नायट्राइड्सच्या विविध रीफ्रॅक्टरी धातूंनी लेपित केले जाऊ शकते.
पीव्हीडी तंत्रज्ञानाचा वापर प्रामुख्याने इंटिग्रल सिमेंटेड कार्बाइड टूल्स आणि हाय स्पीड टूल स्टील टूल्सच्या पृष्ठभागावर उपचार करण्यासाठी केला जातो. हे सिमेंट कार्बाइड बिट, मिलिंग कटर, रीमर, टॅप, विशेष-आकाराचे साधन, वेल्डिंग टूल इत्यादींच्या कोटिंग उपचारांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले गेले आहे.
MT-CVD
दाट तंतुमय स्फटिकासारखे आकारविज्ञान असलेले tcn कोटिंग 700~900℃ वर मध्यम तापमान रासायनिक वाष्प निक्षेपाने (MT-CVD) मिळवता येते. कोटिंगची जाडी 8~10μm पर्यंत पोहोचू शकते आणि cvd तंत्रज्ञानाद्वारे पृष्ठभागाच्या थरावर a2o3、tin असू शकते.
MT-CVD कोटिंग ब्लेड उच्च गती, उच्च तापमान, मोठा भार, कोरड्या कटिंग परिस्थितीसाठी योग्य आहे, त्याचे आयुष्य सामान्य कोटिंग ब्लेडच्या तुलनेत सुमारे दुप्पट आहे. सीव्हीडी पद्धतीचा मुख्य दोष म्हणजे डिपॉझिशन तापमान जास्त आहे आणि जेव्हा हाय स्पीड टूल स्टील टूल लेपित केले जाते तेव्हा टूल अॅनिलिंग आणि विकृतीकरण होईल. म्हणून जमा केलेले साधन शमवले पाहिजे.
कॉपीराइट © २०२२ यांगजियांग यांगडोंग रुईताई हार्डवेअर प्रॉडक्ट्स कं., लिमिटेड | सर्व हक्क राखीव
